[发明专利]用于半导体试验装置的处理机的恒温槽

摘要

一种恒温槽，设在IC试验装置所用的处理机内，可在短时间内将半导体元件均匀地预加热到设定温度。它包括回转台、加热器、轴流风扇、圆筒状整流体。上述整流体对轴流风扇产生的气流进行整流，不会发生紊流，形成以下循环流路，即从轴流风扇通过回转台后，在该回转台的下表面与恒温槽的底面绝热壁之间向外侧流动，并螺旋状地上升，然后通过加热器并返回到轴流风扇。#!

主权项

1、一种用于半导体试验装置的处理机的恒温槽，其特征在于，该恒温槽设有回转台、轴流风扇、圆筒状整流体及热源，其中：回转台以可回转的方式安装在用绝热壁围起来的恒温槽的内侧底部，它用于放置需测定的半导体元件，可在基本水平的面上进行回转；轴流风扇设置在上述回转台的设有气体通过孔的中央部分的上部，通过驱动源的回转驱动，使上述恒温槽内部产生气体的循环流路；圆筒状整流体设在靠近上述轴流风扇的周围，以将该轴流风扇的周围围住；热源设置在上述轴流风扇的上部，并将被测定半导体元件的温度加热到设定温度；通过所述轴流风扇的旋转，将气体吹向恒温槽的底部方向，形成以下这样的整流气体的循环流路，即气体从轴流风扇通过回转台的中央部位后，通过该回转台的下面与恒温槽的底面绝热壁之间返回到轴流风扇。