[发明专利]用于半导体试验装置的处理机的恒温槽无效
| 申请号: | 96111871.7 | 申请日: | 1996-08-27 |
| 公开(公告)号: | CN1087100C | 公开(公告)日: | 2002-07-03 |
| 发明(设计)人: | 福本庆一 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱德万测试 |
| 主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;B65G49/07 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 杨梧 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 半导体 试验装置 处理机 恒温槽 | ||
1、一种用于半导体试验装置的处理机的恒温槽,其特征在于,该恒温槽设有回转台、轴流风扇、圆筒状整流体及热源,其中:回转台以可回转的方式安装在用绝热壁围起来的恒温槽的内侧底部,它用于放置需测定的半导体元件,可在基本水平的面上进行回转;轴流风扇设置在上述回转台的设有气体通过孔的中央部分的上部,通过驱动源的回转驱动,使上述恒温槽内部产生气体的循环流路;圆筒状整流体设在靠近上述轴流风扇的周围,以将该轴流风扇的周围围住;热源设置在上述轴流风扇的上部,并将被测定半导体元件的温度加热到设定温度;通过所述轴流风扇的旋转,将气体吹向恒温槽的底部方向,形成以下这样的整流气体的循环流路,即气体从轴流风扇通过回转台的中央部位后,通过该回转台的下面与恒温槽的底面绝热壁之间返回到轴流风扇。
2、如权利要求1所述的用于半导体试验装置的处理机的恒温槽,其特征在于,所述圆筒状整流体是圆筒状的通道。
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