[发明专利]用于氧化铜的化学还原溶液无效
| 申请号： | 95102903.7 | 申请日： | 1995-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN1066479C | 公开（公告）日： | 2001-05-30 |
| 发明（设计）人： | 中祖昭士;金子阳一 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/00 | 分类号： | C09K3/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种通过使用碱金属硼氢化物作还原剂并往其中添加分子量为２００或更高且分子中具有聚氧乙烯链作添加剂的水溶性有机化合物而获得的化学还原溶液，在下列各方面有价值，它能使氧化铜尽可能完全保持其针状形式时被还原成金属铜，并且能使还原反应在很短的时间内通过简单的程序完成，以致于该化学还原溶液能成功地用于生产多层印刷电路板的方法中。$＃! | ||
| 搜索关键词： | 用于 氧化铜 化学 还原 溶液 | ||
【主权项】：
1．一种适于化学法还原氧化铜为金属铜的化学还原溶液，它含有碱金属硼氢化物和作添加剂的分子量为200至2000且分子中具有聚氧乙烯链的水溶性有机化合物。
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