[发明专利]用于氧化铜的化学还原溶液无效
| 申请号： | 95102903.7 | 申请日： | 1995-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN1066479C | 公开（公告）日： | 2001-05-30 |
| 发明（设计）人： | 中祖昭士;金子阳一 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/00 | 分类号： | C09K3/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 氧化铜 化学 还原 溶液 | ||
【权利要求书】：
1．一种适于化学法还原氧化铜为金属铜的化学还原溶液，它含有碱金属硼氢化物和作添加剂的分子量为200至2000且分子中具有聚氧乙烯链的水溶性有机化合物。
2．按权利要求1的化学还原溶液，其中所述溶液的pH值为11.0至13.0。
3．按权利要求1的化学还原溶液，其中所述分子量为200至2000且分子中具有聚氧乙烯链的水溶性有机化合物浓度为0.01g/l至1g/l。
4．按权利要求1的化学还原溶液，其中所述分子量为200至2000且分子中具有聚氧乙烯链的水溶性有机化合物是非离子的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立化成工业株式会社，未经日立化成工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/95102903.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
