[实用新型]一种处理装置和薄膜沉积设备

摘要

本申请提供一种处理装置和薄膜沉积设备，涉及半导体技术领域，包括具有处理腔的壳体、基板和对中调节组件，基板位于处理腔，对中调节组件与基板驱动配合，通过对中调节组件带动基板相对处理腔进行移动，从而调整基板与处理腔的相对位置，直至基板与处理腔的中心对中，以此，保证基板重新安装后的位置依然较为准确，从而在对处理腔内的半导体衬底进行处理时，能够有效避免位置偏差所导致的不利结果，提高对半导体衬底的处理质量。