[实用新型]一种处理装置和薄膜沉积设备有效
申请号: | 202320694622.3 | 申请日: | 2023-03-31 |
公开(公告)号: | CN219490156U | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 魏有雯;刘振;吴凤丽 | 申请(专利权)人: | 拓荆科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C14/50 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 崔熠 |
地址: | 201306 上海市浦东新区中国(上海)*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 处理 装置 薄膜 沉积 设备 | ||
1.一种处理装置(100),其特征在于,包括具有处理腔(114)的壳体(110)、基板(180)和对中调节组件(150),所述基板(180)位于所述处理腔(114),所述对中调节组件(150)与所述基板(180)驱动配合,所述对中调节组件(150)用于驱动所述基板(180)相对所述处理腔(114)移动,以使所述基板(180)与所述处理腔(114)的中心对中。
2.如权利要求1所述的处理装置(100),其特征在于,所述壳体(110)具有与所述处理腔(114)连通的开口,所述处理装置(100)还包括活动设置于所述开口的支撑组件(140),所述基板(180)经所述支撑组件(140)与所述壳体(110)活动连接,所述对中调节组件(150)位于所述壳体(110)外部,且所述对中调节组件(150)通过所述支撑组件(140)与所述基板(180)驱动配合。
3.如权利要求2所述的处理装置(100),其特征在于,所述支撑组件(140)包括支撑件(130)和用于封闭所述开口的固定基座(120),所述固定基座(120)与所述基板(180)固定连接,所述支撑件(130)与所述固定基座(120)连接,所述支撑件(130)活动设置于所述壳体(110)的外壁,所述对中调节组件(150)与所述支撑件(130)驱动连接。
4.如权利要求3所述的处理装置(100),其特征在于,所述对中调节组件(150)包括细牙螺钉,所述细牙螺钉的一端与所述壳体(110)外壁抵接,所述细牙螺钉的另一端与所述支撑件(130)上的螺孔螺纹连接,所述细牙螺钉用于驱动所述支撑件(130)沿水平方向移动;
或,所述细牙螺钉的一端与所述壳体(110)外壁的螺孔螺纹连接,所述细牙螺钉的另一端与所述支撑件(130)的抵接,所述细牙螺钉用于驱动所述支撑件(130)沿水平方向移动。
5.如权利要求4所述的处理装置(100),其特征在于,在所述细牙螺钉上设置有第一对中标识,在所述壳体(110)或所述支撑件(130)上设置有第二对中标识,以在所述基板(180)与所述处理腔(114)的中心对中时,所述第一对中标识与所述第二对中标识对齐。
6.如权利要求3所述的处理装置(100),其特征在于,所述支撑组件(140)还包括水平调节组件(170),所述支撑件(130)经所述水平调节组件(170)与所述固定基座(120)连接,所述水平调节组件(170)用于调节所述固定基座(120)与所述支撑件(130)之间的距离,以使所述基板(180)的板面与水平面平行。
7.如权利要求6所述的处理装置(100),其特征在于,所述水平调节组件(170)包括变径螺杆(171),所述支撑件(130)与所述变径螺杆(171)的一端螺纹连接,在所述固定基座(120)开设有贯穿孔(121),所述固定基座(120)经所述贯穿孔(121)套设于所述变径螺杆(171)的外周,且所述变径螺杆(171)的变径部(174)与所述贯穿孔(121)一端的孔口处抵接。
8.如权利要求7所述的处理装置(100),其特征在于,所述水平调节组件(170)还包括螺接于所述变径螺杆(171)上的自锁螺母(173),所述自锁螺母(173)用于与所述支撑件(130)抵接以使所述变径螺杆(171)锁定。
9.如权利要求7所述的处理装置(100),其特征在于,在所述变径螺杆(171)上还螺接有固定螺母(172),所述固定螺母(172)与所述贯穿孔(121)背离所述变径部(174)的另一端孔口抵接;所述贯穿孔(121)相对两端的孔口处分别设置有第一球形面(1211),所述变径部(174)和所述固定螺母(172)分别具有第二球形面,所述固定螺母(172)经所述第二球形面与所述第一球形面(1211)接触以与对应的所述孔口处抵接,所述变径部(174)经所述第二球形面与所述第一球形面(1211)接触以与对应的所述孔口处抵接。
10.一种薄膜沉积设备,其特征在于,包括处理气体源以及如权利要求1至9任一项所述的处理装置(100),所述处理气体源与所述处理装置(100)的壳体(110)的处理腔(114)连通。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的