[实用新型]一种双面一体光刻装置

摘要

本实用新型提供了一种双面一体光刻装置，包括光刻设备组件和换料机构，所述光刻设备组件包括加工台、光刻主机和双面一体光刻台；所述换料机构包括转台、两个气缸；本实用新型通过置物板对需要进行曝光处理的电路板进行限位，然后通过气缸的活塞杆带动置物板与转台进行贴合，然后通过伺服电机的输出轴带动转台转动，转动的转台带动两个置物板进行位置互换，然后通过气缸的活塞杆带动置物板进行复位，以便将电路板送入双面一体光刻台的内部，然后通过光刻主机利用掩膜板对电路板进行双面曝光处理，且曝光处理的过程中，可以将另一个置物板内曝光处理后的电路板取下进行更换，用以降低设备整体待机的时间，提高了生产效率。