[实用新型]一种双面一体光刻装置

说明书

本实用新型提供了一种双面一体光刻装置，包括光刻设备组件和换料机构，所述光刻设备组件包括加工台、光刻主机和双面一体光刻台；所述换料机构包括转台、两个气缸；本实用新型通过置物板对需要进行曝光处理的电路板进行限位，然后通过气缸的活塞杆带动置物板与转台进行贴合，然后通过伺服电机的输出轴带动转台转动，转动的转台带动两个置物板进行位置互换，然后通过气缸的活塞杆带动置物板进行复位，以便将电路板送入双面一体光刻台的内部，然后通过光刻主机利用掩膜板对电路板进行双面曝光处理，且曝光处理的过程中，可以将另一个置物板内曝光处理后的电路板取下进行更换，用以降低设备整体待机的时间，提高了生产效率。

技术领域

本实用新型涉及一种光刻装置，具体为双面一体光刻装置，属于曝光设备技术领域。

背景技术

光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺，是对半导体晶片表面的掩蔽物进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术，双面一体光刻装置又名掩模对准曝光机、曝光设备、光刻系统等，是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上；

中国公开授权发明:CN217982126U公开了一种双面一体光刻装置，属于曝光设备技术领域。本实用新型将待光刻的PCB板放置在透明的台面上，随着台面的移动依次通过对准系统、进行上表面光刻的前光学成像系统和进行下表面光刻的后光学成像系统，后光学成像系统的成像图形可以透过透明台面对PCB板的下表面进行光刻；通过可以上下移动的台面，在光刻之前把待光刻的PCB板面调整到光学成像系统的焦面上，有效地解决了因PCB板厚度不一致导致的上下表面对位精度差的问题；相比于现有的双面一次性同时光刻技术，本实用新型简化了光学成像系统的机械结构，缩短了生产周期时间，有效地提升了生产效率；

然后该装置虽简化了光学成像系统的机械结构，缩短了生产周期时间，有效地提升了生产效率，但其单个台面上单次仅能放置一块PCB板，从而导致仅能等待单个PCB板曝光处理完成后，才能对新的PCB板进行上料，且上下料的过程中设备整体处于待机状态，影响了生产效率，为此，提出一种双面一体光刻装置。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型希望提供一种双面一体光刻装置，以解决或缓解现有技术中存在的技术问题，至少提供有益的选择。

本实用新型实施例的技术方案是这样实现的：一种双面一体光刻装置，包括光刻设备组件和换料机构，所述光刻设备组件包括加工台、光刻主机和双面一体光刻台；

所述换料机构包括转台、两个气缸、两个置物板、三个透光板、三个掩膜板和伺服电机；

所述光刻主机安装于所述加工台的上表面，所述双面一体光刻台安装于所述加工台的上表面靠近光刻主机的一侧，所述伺服电机安装于所述加工台的内侧壁，所述转台的底部固定连接于所述伺服电机的输出轴，两个所述气缸对称安装于所述转台的内侧壁，两个所述置物板分别固定连接于两个所述气缸的活塞杆，三个所述透光板分别安装于两个所述置物板的内侧壁底部和双面一体光刻台的内侧壁顶部，三个所述掩膜板分别安装于两个所述置物板的内侧壁中部和双面一体光刻台的内侧壁顶部。

进一步优选的，两个所述置物板的内侧壁顶部均滑动连接有电路板体，所述电路板体与所述掩膜板相适配。

进一步优选的，两个所述置物板的上表面均开设有置物槽，所述电路板体的外侧壁滑动连接于所述置物槽的内侧壁。

进一步优选的，两个所述置物板相邻的一侧均固定连接有两个导向杆，两个所述导向杆均滑动连接于所述转台的内侧壁。

进一步优选的，所述转台的内侧壁对称开设有四个导向槽，四个所述导向槽的内侧壁均滑动连接有定位板，所述导向杆远离置物板的一端分别固定连接于所述定位板的一侧中部。

进一步优选的，所述光刻主机靠近双面一体光刻台的一侧对称安装有两个光学镜头。