[实用新型]一种半导体设备零部件清洗使用的超声波清洗装置有效
| 申请号： | 202320136083.1 | 申请日： | 2023-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN219253497U | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 于苏轼;顾湘郡;黄小峰 | 申请（专利权）人： | 重庆科林泰电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B1/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 重庆志一加诚专利代理事务所(普通合伙) 50278 | 代理人： | 杨芳 |
| 地址： | 402460 重庆市*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种半导体设备零部件清洗使用的超声波清洗装置，包括机体，所述机体的内部设有清洗槽，所述机体的两侧表面均设置有超声波发生器；助流机构，所述助流机构包括安装杆，所述安装杆的上表面固定连接有固定杆，所述固定杆的两侧表面均设置有飘带；清理机构，所述清理机构包括转杆，所述转杆的上表面与下表面均滑动连接有滑珠。通过上述结构，当该装置在对半导体设备进行清洗时，利用超声波发生器使清洗槽内的水可发生波动，飘带受水波动影响可在清洗槽内飘动对清洗槽内的水进行助流，从而使清洗槽内的水波动变大，清理刷可利用滑珠滑动，而转杆可发生轻微晃动，使清理刷可对清洗的半导体设备零部件进行清刷，从而提高了半导体设备清洗效果，提升了清洗效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体设备 零部件 清洗 使用 超声波 装置 | ||
【主权项】：
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