[发明专利]一种二维IGZO纳米片材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310055394.X 申请日: 2023-01-18
公开(公告)号: CN116022840A 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 肖涵;孙俊峰;马燕;陈韦宁 申请(专利权)人: 宁波圆芯电子有限公司;睿芯(大连)股份有限公司
主分类号: C01G15/00 分类号: C01G15/00
代理公司: 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人: 周媛媛;李馨
地址: 315000 浙江省宁波市鄞*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种二维片层状IGZO半导体材料及其制备方法。具体制备方法为采用溶胶凝胶法将铟盐,镓盐,锌盐分别在水中搅拌溶解,混合均匀后,加入碱性添加剂使三种盐产生共沉淀,添加搅拌稳定后的pH为4~9。在烘箱中热处理进行反应获得IGZO前驱体,洗涤干燥获得前驱体粉末,将粉末在800‑1300℃下高温烧结成IGZO纳米片。本发明获得的IGZO纳米片直径为100nm~5μm,片层厚度100nm,纳米片可分散于适合溶剂,如二甲基亚砜,N‑甲基吡咯烷酮,乙二醇等溶剂中,经加工后可用于印刷/喷墨打印用n型半导体制备或薄膜半导体功能模块的生产。
搜索关键词: 一种 二维 igzo 纳米 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
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