[实用新型]双台面激光直写曝光设备

摘要

本实用新型提供一种双台面激光直写曝光设备，包括底座与设置在底座上方的曝光系统、对准系统，在底座与对准系统之间分层设置有上工作台与下支承座；所述上工作台与下支承座平行于底座的顶面移动设置；下工作台在下支承座上沿顶面的法向移动设置。该双台面激光直写曝光设备仅在一个曝光工作台上设置了用于调整物距的Z向移动机构，可以保证曝光全流程中，曝光系统与其中一个曝光工作台在Z向上的位置是固定不变的，仅存在一个独立工作台会产生沿Z向的上下移动用于调整该工作台的物距。结构简单可靠，方便维护；且降低了因为运动精度而导致曝光虚焦、产品报废的可能性。