[实用新型]双台面激光直写曝光设备

权利要求书

1.一种双台面激光直写曝光设备，包括底座(1)与设置在底座(1)上方的曝光系统(2)和对准系统(3)，其特征在于，在所述底座(1)与所述对准系统(3)之间分层设置有上工作台(41)与下支承座(42)；

所述上工作台(41)与所述下支承座(42)平行于所述底座(1)的顶面(11)移动设置；下工作台(43)在所述下支承座(42)上沿所述顶面(11)的法向移动设置。

2.如权利要求1所述的双台面激光直写曝光设备，其特征在于，所述下支承座(42)与所述下工作台(43)之间设置有至少三组升降轴(423)。

3.如权利要求1所述的双台面激光直写曝光设备，其特征在于，所述上工作台(41)与所述下支承座(42)的移动方向平行。

4.如权利要求3所述的双台面激光直写曝光设备，其特征在于，所述顶面(11)上设置有两组平行的下移动轴(422)，所述下支承座(42)在所述下移动轴(422)上移动设置。

5.如权利要求3所述的双台面激光直写曝光设备，其特征在于，所述顶面(11)的两侧平行设置有侧板(111)，在两个侧板(111)上分别设置上移动轴(411)，上工作台(41)在上移动轴(411)上移动设置。

6.如权利要求1-5任一项所述的双台面激光直写曝光设备，其特征在于，所述曝光系统(2)设置在所述顶面(11)上方的曝光龙门架(21)上，所述上工作台(41)与所述下支承座(42)平移时从所述曝光龙门架(21)的下方穿过。

7.如权利要求6所述的双台面激光直写曝光设备，其特征在于，所述曝光系统(2)包括多个在所述曝光龙门架(21)上排布的光学模组(22)，多个光学模组(22)组合后的曝光宽度覆盖所述上工作台(41)和所述下工作台(43)各自的宽度范围。

8.如权利要求1-5任一项所述的双台面激光直写曝光设备，其特征在于，所述对准系统(3)设置在所述顶面(11)上方的对准龙门架(31)上，所述上工作台(41)与所述下支承座(42)平移时从所述对准龙门架(31)的下方穿过。

9.如权利要求8所述的双台面激光直写曝光设备，其特征在于，所述对准系统(3)包括多个在所述对准龙门架(31)上沿所述上工作台(41)宽度方向平移设置的对准相机组件(32)。