[实用新型]双台面激光直写曝光设备

说明书

本实用新型提供一种双台面激光直写曝光设备，包括底座与设置在底座上方的曝光系统、对准系统，在底座与对准系统之间分层设置有上工作台与下支承座；所述上工作台与下支承座平行于底座的顶面移动设置；下工作台在下支承座上沿顶面的法向移动设置。该双台面激光直写曝光设备仅在一个曝光工作台上设置了用于调整物距的Z向移动机构，可以保证曝光全流程中，曝光系统与其中一个曝光工作台在Z向上的位置是固定不变的，仅存在一个独立工作台会产生沿Z向的上下移动用于调整该工作台的物距。结构简单可靠，方便维护；且降低了因为运动精度而导致曝光虚焦、产品报废的可能性。

技术领域

本实用新型涉及激光直写曝光设备技术领域，具体涉及一种双台面激光直写曝光设备。

背景技术

激光直写曝光设备相对于传统曝光设备，节省了制作菲林底片或掩膜光罩的工序，具有更简单的曝光生产工序流程和更高的对位精度。

为提升产能获得更高的产出，行业内采用的通行做法是使用双工作台的结构型式，其结构型式有两种，一种为水平方向左右布置的双工作台结构，另外一种为竖直方向上下双工作台交替运动的结构。两种结构形式都是共用一套曝光系统与对准系统，可实现一个工作台面进行曝光作业时，另一个台面进行上下片，曝光数据准备等工作，这样可将单工作台的结构形式作业过程的完全串行时间改成并行作业，大大减少工作周期，提高产能。

对于左右双台面的结构，其曝光系统的X方向是由一根步进轴驱动整个光学模组沿着X方向左右移动。由于整个光学曝光系统安装在运动的轴上面，运动轴的运动定位精度和机械机构刚性问题和热稳定性将全部传递和影响到实际的曝光精度和稳定性。

对于上下交互的双台面结构，其曝光系统的X方向没有运动轴，为了实现曝光系统的物距调整，需要在曝光系统或者工作台上设置Z向驱动装置。

比如公开号为CN208969430U的名为“一种双台面激光直写式曝光机”的中国实用新型专利申请、公开号为CN111965944A的名为“一种新型双面双载板机构数字化直写曝光机及曝光方法”的中国发明专利申请等均公开了在曝光系统上设置Z向驱动装置以实现曝光物距调整的技术方案。与左右双台面结构的问题类似，由于整个光学曝光系统安装在运动的轴上面，运动轴的运动定位精度和机械机构刚性问题和热稳定性将全部传递和影响到实际的曝光精度和稳定性。

又如公开号为CN109143797A的名称为“一种双台面直写式曝光机及其曝光方法”的中国发明专利申请、公开号为CN112698549A的名称为“一种双台面直写式曝光机及其曝光方法”的中国发明专利申请等均公开在双工作台上均设置Z向驱动装置的技术方案。该结构型式的曝光系统曝光的光路系统是固定不动安装在大理石横梁上，但是工作台的驱动装置涉及双工作台的双向移动设计，构设计和制造更复杂。而且由于需要分别控制两个工作台的Z向移动来分别对准曝光系统的物距，控制过程更加复杂，也增大了虚焦的风险。

实用新型内容

针对现有的上下交互的双台面结构曝光系统是Z向运动的或者其双台面都是需要Z向移动的，而导致其结构复杂，曝光稳定性有待提升的问题，本实用新型提供一种双台面激光直写曝光设备。

本实用新型的技术方案提供一种双台面激光直写曝光设备，包括底座与设置在底座上方的曝光系统和对准系统，其特征在于，在所述底座与所述对准系统之间分层设置有上工作台与下支承座；

所述上工作台与所述下支承座平行于所述底座的顶面移动设置；下工作台在所述下支承座上沿所述顶面的法向移动设置。

具体的，所述下支承座与所述下工作台之间设置有至少三组升降轴。

具体的，所述上工作台与所述下支承座的移动方向平行。

具体的，所述顶面上设置有两组平行的下移动轴，所述下支承座在所述下移动轴上移动设置。

具体的，所述顶面的两侧平行设置有侧板，在两个侧板上分别设置上移动轴，上工作台在上移动轴上移动设置。