[实用新型]半导体结构有效
申请号: | 202223036588.5 | 申请日: | 2022-11-15 |
公开(公告)号: | CN218769544U | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 张皓宇;陈敏腾 | 申请(专利权)人: | 福建省晋华集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/10;H01L23/48;H01L21/336 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 尤彩红 |
地址: | 362200 福建省泉州*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种半导体结构。该半导体结构中,将U型沟道层设置在栅极导电层内的竖直通孔中,并将第一接触垫和第二接触垫分别设置在U型沟道层的底部和顶部,使得半导体结构整体以竖直的方式设置,实现了尺寸的缩减。并且,U型沟道层具有第一沟道层和第二沟道层,第一沟道层可用于在栅极介质层的制备过程中覆盖栅极介质层,避免栅极介质层受到刻蚀轰击而产生刻蚀损伤,有利于提高半导体结构的性能稳定性。 | ||
搜索关键词: | 半导体 结构 | ||
【主权项】:
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