[实用新型]半导体结构有效

专利信息
申请号: 202223036588.5 申请日: 2022-11-15
公开(公告)号: CN218769544U 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 张皓宇;陈敏腾 申请(专利权)人: 福建省晋华集成电路有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/10;H01L23/48;H01L21/336
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 尤彩红
地址: 362200 福建省泉州*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型提供了一种半导体结构。该半导体结构中,将U型沟道层设置在栅极导电层内的竖直通孔中,并将第一接触垫和第二接触垫分别设置在U型沟道层的底部和顶部,使得半导体结构整体以竖直的方式设置,实现了尺寸的缩减。并且,U型沟道层具有第一沟道层和第二沟道层,第一沟道层可用于在栅极介质层的制备过程中覆盖栅极介质层,避免栅极介质层受到刻蚀轰击而产生刻蚀损伤,有利于提高半导体结构的性能稳定性。
搜索关键词: 半导体 结构
【主权项】:
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