[实用新型]一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机有效
| 申请号： | 202222538562.4 | 申请日： | 2022-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN219586166U | 公开（公告）日： | 2023-08-25 |
| 发明（设计）人： | 应世强;李文 | 申请（专利权）人： | 南京丙辰表面技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/50;C23C14/56 |
| 代理公司： | 南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙) 32475 | 代理人： | 王萍 |
| 地址： | 211806 江苏省南京市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，包括支架、固定架和真空控制组件，所述固定架内壁之间固定连接有壳体，壳体固定装配有多个电弧靶，且炉内电弧靶前面炉壁上固定安装有多个环架，环架为台阶型环状结构，环架的最外侧固定安装有圆形栅板。本实用新型通过环架和圆形栅板的设置，在电弧靶使用时，利用真空条件下分子自由程变大的原理，使产品表面更光亮，同时减少大颗粒的影响，可以镀制更厚的膜层，可以提高膜层质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 减少 沉积 颗粒 电弧 离子 真空镀膜 | ||
【主权项】：
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