[实用新型]一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机

权利要求书

1.一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，包括支架(17)、固定架(1)和真空控制组件，其特征在于，所述固定架(1)内壁之间固定连接有壳体(2)，壳体(2)侧边固定安插有多个电弧靶(3)，且炉内电弧靶(3)前面炉壁上通过绝缘支架固定安装有多个环架(5)，环架(5)为台阶型环状结构，环架(5)的最外侧固定安装有圆形栅板(6)。

2.根据权利要求1所述的一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，其特征在于，所述壳体(2)顶部固定连接有电机，电机输出端穿过壳体(2)，且电机输出端固定连接有转动轴(7)，转动轴(7)底端固定连接有转动盘(8)。

3.根据权利要求2所述的一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，其特征在于，所述转动盘(8)底部固定连接有放置杆(9)，放置杆(9)的底端固定连接有底盘(10)。

4.根据权利要求3所述的一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，其特征在于，所述壳体(2)顶部固定插接有放气管，放气管一侧设置有放气阀。

5.根据权利要求1所述的一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，其特征在于，所述壳体(2)一侧转动连接有开关门(11)，开关门(11)一侧固定连接有把手(12)，且开关门(11)内壁上嵌接有密封垫。

6.根据权利要求1所述的一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，其特征在于，所述真空控制组件包括固定在支架(17)上的维持泵(18)、罗茨泵(19)和机械泵(20)，机械泵(20)与罗茨泵(19)之间相密封连接，罗茨泵(19)与壳体(2)之间密封设置有带有粗抽阀的第二连接管。

7.根据权利要求6所述的一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，其特征在于，所述壳体(2)一侧固定连接有支撑块(14)，支撑块(14)上固定有分子泵(15)，分子泵(15)和壳体(2)之间密封插接固定有带有高阀的抽气管(16)。

8.根据权利要求7所述的一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，其特征在于，所述分子泵(15)与维持泵(18)之间密封设置有带有维持阀的第一连接管，第一连接管与第二连接管之间密封设置有带有前级阀的第三连接管。