[实用新型]一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机

说明书

本实用新型公开了一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，包括支架、固定架和真空控制组件，所述固定架内壁之间固定连接有壳体，壳体固定装配有多个电弧靶，且炉内电弧靶前面炉壁上固定安装有多个环架，环架为台阶型环状结构，环架的最外侧固定安装有圆形栅板。本实用新型通过环架和圆形栅板的设置，在电弧靶使用时，利用真空条件下分子自由程变大的原理，使产品表面更光亮，同时减少大颗粒的影响，可以镀制更厚的膜层，可以提高膜层质量。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机。

背景技术

真空镀膜是利用在一定的真空条件下，在真空腔室内，利用加热或放电，把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被镀的物体上沉积一层膜层的方法，其中利用弧光放电的进行沉积膜层的设备通常叫做电弧离子真空镀膜机。

目前现有的电弧离子真空镀膜机，大多存在以下的不足：在使用时，会有大颗粒的金属团存在，影响了膜层的致密性等各项性能指标，不能满足人们的需求。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种可减少沉积大颗粒膜层的电弧离子真空镀膜机，包括支架、固定架和真空控制组件，所述固定架内壁之间固定连接有壳体，壳体侧边固定安装有多个电弧靶，且炉内电弧靶前面炉壁上通过绝缘支架固定安装有多个环架，环架为台阶型环状结构，环架的最外侧固定安装有圆形栅板。

作为本实用新型再进一步的方案，所述壳体顶部固定连接有电机，电机输出端穿过壳体，且电机输出端固定连接有转动轴，转动轴底端固定连接有转动盘。

作为本实用新型再进一步的方案，所述转动盘底部固定连接有放置杆，放置杆的底端固定连接有底盘。

作为本实用新型再进一步的方案，所述壳体顶部固定插接有放气管，放气管一侧设置有放气阀。

作为本实用新型再进一步的方案，所述壳体一侧转动连接有开关门，开关门一侧固定连接有把手，且开关门多侧外壁上粘接有密封垫。

作为本实用新型再进一步的方案，所述真空控制组件包括固定在支架上的维持泵、罗茨泵和机械泵，机械泵与罗茨泵之间相密封连接，罗茨泵与壳体之间密封设置有带有粗抽阀的第二连接管。

作为本实用新型再进一步的方案，所述壳体一侧固定连接有支撑块，支撑块上固定有分子泵，分子泵和壳体之间密封插接固定有带有高阀的抽气管。

作为本实用新型再进一步的方案，所述分子泵与维持泵之间密封设置有带有维持阀的第一连接管，第一连接管与第二连接管之间密封设置有带有前级阀的第三连接管。

本实用新型的有益效果为：

1.本实用新型通过环架、和多个圆形栅板的设置，在电弧靶使用时，利用真空条件下分子自由程变大的原理，金属原子和金属离子的以及氩原子及氩离子有较大的机会穿过圆形栅板的空间，到达产品表面，沉积成膜层，电弧靶释放出的大颗粒金属团因为质量比较大，运动轨迹相对改变较小，所以大部分会被环状栅板挡住，从而减少大颗粒沉积到膜层里，使产品表面更光亮，同时减少大颗粒的影响，可以镀制更厚的膜层，可以提高膜层质量。

2.本实用新型通过电机、转动轴、转动盘、放置杆、底盘的设置，产品放置在底盘上，通过电机带动放置杆和底盘转动，从而带动产品转动，使产品镀膜的范围更大，效率更高。

3.本实用新型通过密封垫的设置，在开关门关闭时，增加了开关门与壳体之间的密封效果，防止空气进入。

附图说明

图1为本实用新型提出的壳体立体结构示意图；