[实用新型]一种晶片清洗槽清洗试剂添加装置有效
| 申请号： | 202222508208.7 | 申请日： | 2022-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN218191372U | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 李强;祝小林;冯晋荃;彭艳亮;李昌勋;陈亮;刘建哲;徐良 | 申请（专利权）人： | 黄山博蓝特半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 杭州凌通知识产权代理有限公司 33316 | 代理人： | 叶绿林 |
| 地址： | 245000 安徽省黄山*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种晶片清洗槽清洗试剂添加装置，包括清洗槽，出液口设置在清洗槽内的硫酸进液管和双氧水进液管；所述硫酸进液管的另一端连接至硫酸计量桶，双氧水进液管连接至双氧水计量桶，所述硫酸计量桶和双氧水计量桶的底部分别设置有压力计，所述硫酸进液管和双氧水进液管上分别设置有控制流量的气动阀，还设置有控制气动阀开启大小的电磁阀；还设置有控制器，所述控制器接收压力计的信号并控制电磁阀动作以调节气动阀的开启大小。本实用新型可以自动控制清洗槽内硫酸和双氧水的进液比例，且能够减缓反应的剧烈程度，可广泛应用于晶片清洗槽的试剂添加领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶片 清洗 试剂 添加 装置 | ||
【主权项】：
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