[实用新型]一种晶片清洗槽清洗试剂添加装置

权利要求书

1.一种晶片清洗槽清洗试剂添加装置，包括清洗槽(1)，出液口设置在清洗槽(1)内的硫酸进液管(2)和双氧水进液管(3)；其特征在于：所述硫酸进液管(2)的另一端连接至硫酸计量桶(4)，双氧水进液管(3)连接至双氧水计量桶(5)，所述硫酸计量桶(4)和双氧水计量桶(5)的底部分别设置有压力计(6)，所述硫酸进液管(2)和双氧水进液管(3)上分别设置有控制流量的气动阀(7)，还设置有控制气动阀(7)开启大小的电磁阀(8)；还设置有控制器(9)，所述控制器(9)接收压力计(6)的信号并控制电磁阀(8)动作以调节气动阀(7)的开启大小。

2.如权利要求1所述的晶片清洗槽清洗试剂添加装置，其特征在于：所述硫酸计量桶(4)和双氧水计量桶(5)内还分别设置有液位感应器(10)，液位感应器(10)与控制器(9)通讯连接。

3.如权利要求1所述的晶片清洗槽清洗试剂添加装置，其特征在于：所述硫酸计量桶(4)和双氧水计量桶(5)的高度高于清洗槽(1)。

4.如权利要求1所述的晶片清洗槽清洗试剂添加装置，其特征在于：所述硫酸进液管(2)和双氧水进液管(3)位于清洗槽(1)内的部分均匀分布有一组出液孔(11)。

5.如权利要求4所述的晶片清洗槽清洗试剂添加装置，其特征在于：所述硫酸进液管(2)和双氧水进液管(3)上的出液孔(11)相对布置。

6.如权利要求4所述的晶片清洗槽清洗试剂添加装置，其特征在于：所述出液孔(11)的孔径为1.5-2.5mm。

7.如权利要求2所述的晶片清洗槽清洗试剂添加装置，其特征在于：所述硫酸计量桶(4)的上方还设置有硫酸补偿管(12)，所述双氧水计量桶(5)的上方还设置有双氧水补偿管(13)，所述硫酸补偿管(12)和双氧水补偿管(13)上设置有控制阀(14)，所述控制器(9)接收液位感应器(10)的信号并控制控制阀(14)开闭。