[实用新型]一种磁控溅射靶位冷却装置有效

专利信息
申请号: 202222479253.4 申请日: 2022-09-16
公开(公告)号: CN218155010U 公开(公告)日: 2022-12-27
发明(设计)人: 李金成;张志聪;黄东阳;陈健;杨占锋 申请(专利权)人: 合肥亿米特科技股份有限公司
主分类号: F25D17/02 分类号: F25D17/02;F25D23/00;F25D29/00;C23C14/35;C23C14/54
代理公司: 珠海飞拓知识产权代理事务所(普通合伙) 44650 代理人: 陈李青
地址: 230093 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型涉及一种磁控溅射靶位冷却装置,包括冷却水盒,冷却水盒内部开设有水位腔,水位腔内壁开设有回水腔;水位腔端口密封安装有密封盖板,回水腔端口密封安装有密封隔板,且密封隔板将水位腔和回水腔分隔成两个独立的腔体;冷却水盒底部一侧连接有进水管,且进水管与水位腔相通;冷却水盒的底部位于进水管的一侧连接有排水管,且排水管与回水腔相通;密封隔板的上端部等距贯穿开通有回水孔。确保了水位腔内部的冷却液后始终处于满载状态,提高了对靶材的冷却效果,利用水位传感器与电源形成互锁,在水位传感器未监测到水位符合要求前,电源无法开启,靶位无法工作,保证了安全性。
搜索关键词: 一种 磁控溅射 冷却 装置
【主权项】:
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