[实用新型]一种磁控溅射靶位冷却装置

说明书

本实用新型涉及一种磁控溅射靶位冷却装置，包括冷却水盒，冷却水盒内部开设有水位腔，水位腔内壁开设有回水腔；水位腔端口密封安装有密封盖板，回水腔端口密封安装有密封隔板，且密封隔板将水位腔和回水腔分隔成两个独立的腔体；冷却水盒底部一侧连接有进水管，且进水管与水位腔相通；冷却水盒的底部位于进水管的一侧连接有排水管，且排水管与回水腔相通；密封隔板的上端部等距贯穿开通有回水孔。确保了水位腔内部的冷却液后始终处于满载状态，提高了对靶材的冷却效果，利用水位传感器与电源形成互锁，在水位传感器未监测到水位符合要求前，电源无法开启，靶位无法工作，保证了安全性。

技术领域

本实用新型涉及冷却装置技术领域，具体为一种磁控溅射靶位冷却装置。

背景技术

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。

磁控溅射因正常使用时靶材会产生高温，所以靶位后需有冷却装置，现有的冷却装置多在上下开孔，通过冷水机的水循环完成冷却。而现有的部分靶位冷却装置在使用过程中，由于出水口设计过低，导致水位低，使得靶材冷却不够均匀，导致冷却效果不够好，同时在冷却水压过小或水路阻塞时，靶位溅射仍正常运行，产生高温不能及时散出易损坏靶材。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种冷却效果好的磁控溅射靶位冷却装置。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案。

一种磁控溅射靶位冷却装置，包括冷却水盒，冷却水盒内部开设有水位腔，水位腔内壁开设有回水腔；水位腔端口密封安装有密封盖板，回水腔端口密封安装有密封隔板，且密封隔板将水位腔和回水腔分隔成两个独立的腔体；冷却水盒底部一侧连接有进水管，且进水管与水位腔相通；冷却水盒的底部位于进水管的一侧连接有排水管，且排水管与回水腔相通；密封隔板的上端部等距贯穿开通有回水孔。

由此可见，本装置通过密封隔板将水位腔和回水腔分隔成两个独立的腔体，冷却液从进水管持续注入至水位腔内部，水位腔内部的冷却液液位将上升，在液位上升至回水孔时会通过回水孔流入至回水腔内部，且通过排水管冷却液将回流，确保了水位腔内部的冷却液后始终处于满载状态，提高了对靶材的冷却效果。

进一步的，冷却水盒的顶部安装有水位传感器，且水位传感器贯穿延伸至水位腔的内顶部处。

进一步的，回水孔的数量为三个，且回水孔的高度与水位传感器位于水位腔内的端部保持一致。

通过在冷却水盒的顶部设置有水位传感器，且使得水位传感器位于水位腔内的端部与回水孔保持同一高度，在冷却液液位上升至回水孔的高度时，可被水位传感器感应到，从而水位传感器发出信号，控制电源开启，装置进行正常溅射工作，通过利用水位传感器与电源形成互锁，在水位传感器未监测到水位符合要求前，电源无法开启，靶位无法工作，保证了安全性，同时将三组回水孔呈等距设置，增大了水位腔内部的冷却液流入至回水腔内部的速度，避免发生堵塞的情况。

进一步的，冷却水盒的一侧设置有冷却水箱，冷却水箱的进水端与排水管相通连接；冷却水箱的出水端相通连接有引水管，引水管的端部连接有小型水泵，且小型水泵的出水端与进水管的端部相通连接。

通过小型水泵工作将冷却水箱内部的冷却液经引水管和进水管导入至水位腔内部，同时回水腔内部的冷却液可从排水管回流至冷却水箱内部，形成水循环的效果，便于持续的水冷散热。

进一步的，冷却水箱的表面均匀安装有散热铝片，且散热铝片端部均贯穿延伸至冷却水箱内部与冷却液接触。

通过散热铝片可将冷却水箱内部冷却液中含有的热量导入至冷却水箱外部，起到一定的冷却散热效果。