[实用新型]溅射阴极装置有效
| 申请号： | 202222263209.X | 申请日： | 2022-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN217973378U | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 靳伟;何云鹏 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 任德欣 |
| 地址： | 200436 上海市宝山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种溅射阴极装置，包括阴极安装法兰、溅射阴极外护罩、靶管和磁棒，阴极安装法兰和溅射阴极外护罩形成容置腔，靶管和磁棒均可转动设置在容置腔内，溅射阴极外护罩上贯穿开设有溅射孔，靶管对应溅射孔设置。该溅射阴极装置在受到大气污染或其他靶材物质的污染时，可转动磁棒并对靶管进行清洗，并使清洗下来的污染物朝向容置腔内部扩散，以保证镀膜初期的镀膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 阴极 装置 | ||
【主权项】：
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