[实用新型]溅射阴极装置

说明书

本实用新型涉及溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种溅射阴极装置，包括阴极安装法兰、溅射阴极外护罩、靶管和磁棒，阴极安装法兰和溅射阴极外护罩形成容置腔，靶管和磁棒均可转动设置在容置腔内，溅射阴极外护罩上贯穿开设有溅射孔，靶管对应溅射孔设置。该溅射阴极装置在受到大气污染或其他靶材物质的污染时，可转动磁棒并对靶管进行清洗，并使清洗下来的污染物朝向容置腔内部扩散，以保证镀膜初期的镀膜质量。

技术领域

本实用新型涉及溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种溅射阴极装置。

背景技术

常见的溅射镀膜方式主要有两种，一种是反应式溅射，一种是金属后反应溅射。对于反应式溅射，通常会在溅射源附近通入反应气体以参与溅射过程。在镀膜过程中，同一真空腔体内不同材料的溅射靶材之间可能会形成靶材表面的相互污染，因此，在后续镀膜的膜层沉积初期，溅射源的放电、膜层沉积速率及膜层光学常数往往是不稳定的。另外，镀膜设备破真空时，靶材表面也可能会被大气污染，从而可能影响后续镀膜质量。

因此，亟需一种溅射阴极装置，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：提供一种溅射阴极装置，有利于保证镀膜初期的镀膜质量。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

提供一种溅射阴极装置，包括阴极安装法兰、溅射阴极外护罩、靶管和磁棒，所述阴极安装法兰和所述溅射阴极外护罩形成容置腔，所述靶管和所述磁棒均可转动设置在所述容置腔内，所述溅射阴极外护罩上贯穿开设有溅射孔，所述靶管对应所述溅射孔设置。

作为溅射阴极装置的一种优选方案，所述溅射阴极外护罩包括可拆卸连接的顶盖和基体，所述基体为筒状，所述顶盖覆盖在所述基体远离所述阴极安装法兰的一端开口处，所述溅射孔开设在所述顶盖上。

作为溅射阴极装置的一种优选方案，所述溅射阴极外护罩还包括连接边沿，所述连接边沿连接于所述基体，所述连接边沿可拆卸连接于所述阴极安装法兰。

作为溅射阴极装置的一种优选方案，所述靶管和所述溅射孔均设置有两个，所述溅射阴极外护罩还包括设置在所述容置腔内的挡壁，所述挡壁设置在两个所述溅射孔之间。

作为溅射阴极装置的一种优选方案，所述溅射孔的宽度小于所述靶管的宽度。

作为溅射阴极装置的一种优选方案，还包括布气组件，所述布气组件设置在所述容置腔内，所述布气组件沿所述靶管的轴向延伸。

作为溅射阴极装置的一种优选方案，所述布气组件包括气体输出管和挡流板，所述挡流板设置在所述气体输出管与所述靶管之间。

作为溅射阴极装置的一种优选方案，所述挡流板包括主板和两个侧板，两个所述侧板分别设置在所述主板的两侧，所述侧板朝向所述阴极安装法兰的底壁倾斜设置。

作为溅射阴极装置的一种优选方案，还包括内挡板，所述内挡板设置在所述容置腔内，且铺设在所述阴极安装法兰的内侧。

作为溅射阴极装置的一种优选方案，还包括对接板，所述对接板设置在所述侧板与所述底壁之间，且所述对接板与所述侧板平行间隔设置。

本实用新型的有益效果：

本实用新型提供了一种溅射阴极装置，包括阴极安装法兰、溅射阴极外护罩、靶管和磁棒，阴极安装法兰和溅射阴极外护罩形成容置腔，靶管和磁棒均可转动设置在容置腔内，溅射阴极外护罩上贯穿开设有溅射孔，靶管对应溅射孔设置。该溅射阴极装置在受到大气污染或其他靶材物质的污染时，可转动磁棒并对靶管进行清洗，并使清洗下来的污染物朝向容置腔内部扩散，以保证镀膜初期的镀膜质量。

附图说明

图1是本实用新型实施例所提供的溅射阴极装置的第一视角的部分结构示意图；