[实用新型]气流盖及气相沉积系统

摘要

一种气流盖及气相沉积系统，涉及光电子技术领域。该气流盖包括盖体；盖体的顶面和/或侧面设置有第一反应气体入口、第二反应气体入口和第三反应气体入口；盖体的底面设置有多个第一反应气体出口、多个第二反应气体出口和多个第三反应气体出口；盖体内部设置有第一反应气体腔、第二反应气体腔和第三反应气体腔；第一反应气体入口、第二反应气体入口和第三反应气体入口中的一个或者多个设置有推气装置。该气相沉积系统包括气流盖。本实用新型的目的在于提供一种气流盖及气相沉积系统，以在一定程度上解决现有技术中存在的Ⅲ族反应气体与掺杂反应气体各自通入量无法单独调整的技术问题。