[实用新型]气流盖及气相沉积系统

权利要求书

1.一种气流盖，其特征在于，包括盖体；

所述盖体的顶面和/或侧面设置有第一反应气体入口、第二反应气体入口和第三反应气体入口；

所述盖体的底面设置有多个第一反应气体出口、多个第二反应气体出口和多个第三反应气体出口；

所述盖体内部设置有连通所述第一反应气体入口与所述第一反应气体出口的第一反应气体腔，所述盖体内部设置有连通所述第二反应气体入口与所述第二反应气体出口的第二反应气体腔，所述盖体内部设置有连通所述第三反应气体入口与所述第三反应气体出口的第三反应气体腔；所述第一反应气体腔、所述第二反应气体腔和所述第三反应气体腔互不连通，且所述第一反应气体腔、所述第二反应气体腔和所述第三反应气体腔沿所述盖体的厚度方向设置；

所述第一反应气体入口、所述第二反应气体入口和所述第三反应气体入口中的一个或者多个设置有推气装置。

2.根据权利要求1所述的气流盖，其特征在于，所述盖体呈圆盘型结构；

所述盖体包括多个呈扇形的盖体分部；多个所述盖体分部围合连接呈圆形。

3.根据权利要求2所述的气流盖，其特征在于，每个所述盖体分部分别设置有所述第一反应气体入口、所述第二反应气体入口、所述第三反应气体入口、所述第一反应气体出口、所述第二反应气体出口和所述第三反应气体出口；

所述第一反应气体入口、所述第二反应气体入口和所述第三反应气体入口各自设置有推气装置。

4.根据权利要求1所述的气流盖，其特征在于，所述第一反应气体入口、所述第二反应气体入口和所述第三反应气体入口中的一个或者多个的数量为多个；所述第一反应气体入口的数量为多个时，多个所述第一反应气体入口均匀分布在所述盖体的顶面或者多个所述第一反应气体入口对称设置；所述第二反应气体入口的数量为多个时，多个所述第二反应气体入口均匀分布在所述盖体的顶面或者多个所述第二反应气体入口对称设置；所述第三反应气体入口的数量为多个时，多个所述第三反应气体入口均匀分布在所述盖体的顶面或者多个所述第三反应气体入口对称设置；

和/或，所述第一反应气体出口、所述第二反应气体出口和所述第三反应气体出口中的一个或者多个的数量为多个；所述第一反应气体出口的数量为多个时，多个所述第一反应气体出口均匀分布在所述盖体的底面或者多个所述第一反应气体出口对称设置；所述第二反应气体出口的数量为多个时，多个所述第二反应气体出口均匀分布在所述盖体的底面或者多个所述第二反应气体出口对称设置；所述第三反应气体出口的数量为多个时，多个所述第三反应气体出口均匀分布在所述盖体的底面或者多个所述第三反应气体出口对称设置。

5.根据权利要求1所述的气流盖，其特征在于，沿所述盖体的厚度方向，所述盖体内设置有第一反应气体连接出管、第二反应气体连接出管和第三反应气体连接出管；

所述第一反应气体出口通过所述第一反应气体连接出管与所述第一反应气体腔连通，所述第二反应气体出口通过所述第二反应气体连接出管与所述第二反应气体腔连通，所述第三反应气体出口通过所述第三反应气体连接出管与所述第三反应气体腔连通。

6.根据权利要求1所述的气流盖，其特征在于，所述第三反应气体腔包括互不连通的镁源气体腔和铝源气体腔；

所述第三反应气体入口包括与所述镁源气体腔连通的镁源入口和与所述铝源气体腔连通的铝源入口；

所述第三反应气体出口包括与所述镁源气体腔连通的镁源出口和与所述铝源气体腔连通的铝源出口。

7.根据权利要求6所述的气流盖，其特征在于，所述第三反应气体腔还包括SiH₄气体腔；所述第三反应气体入口包括与所述SiH₄气体腔连通的SiH₄入口；所述第三反应气体出口包括与所述SiH₄气体腔连通的SiH₄出口；

和/或，所述第三反应气体腔还包括In源气体腔；所述第三反应气体入口包括与所述In源气体腔连通的In源入口；所述第三反应气体出口包括与所述SiH₄气体腔连通的In源出口。