[实用新型]一种冷壁法CVD沉积设备

摘要

本实用新型公布了一种冷壁法CVD沉积设备，包括支撑座，支撑座的内腔左侧安装有电源，支撑座的内腔右侧安装有真空泵，支撑座的顶部中心连接有沉积箱，真空泵与沉积箱之间连通有抽气管，抽气管上安装有控制阀，支撑座的顶部左右两侧连接有液压杆，两个液压杆的顶部共同连接有压盖，压盖的底部左右两侧连接有固定架，两个固定架的下端之间转动连接有安装座，安装座的前后两端连接有加热棒，安装座沿长度方向开设有多个通槽；本实用新型结构设计合理，便于对晶片进行装卸，便于沉积操作的进行，能够充分利用加热产生的热能，减少反应物积聚残留在沉积箱内壁，方便对晶片的两个端面进行加工，避免了气体泄漏，节能环保，方便实用。