[实用新型]一种冷壁法CVD沉积设备

权利要求书

1.一种冷壁法CVD沉积设备，包括支撑座(1)，其特征在于：所述支撑座(1)的内腔左侧安装有电源(2)，所述支撑座(1)的内腔右侧安装有真空泵(3)，所述支撑座(1)的顶部中心连接有沉积箱(4)，所述真空泵(3)与沉积箱(4)之间连通有抽气管(5)，所述抽气管(5)上安装有控制阀(6)，所述支撑座(1)的顶部左右两侧连接有液压杆(7)，两个所述液压杆(7)的顶部共同连接有压盖(8)，所述压盖(8)的底部左右两侧连接有固定架(9)，两个所述固定架(9)的下端之间转动连接有安装座(10)，所述安装座(10)的前后两端连接有加热棒(11)，所述安装座(10)沿长度方向开设有多个通槽(12)。

2.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积设备，其特征在于：所述沉积箱(4)的内腔右侧壁连接有电动推杆(401)，所述电动推杆(401)的活动端连接有隔热板(402)，所述隔热板(402)的右侧壁连接有转向电机(403)，所述隔热板(402)上转动连接有转向轴(404)，所述转向轴(404)的左端连接有卡块(405)，所述安装座(10)右端开设有与卡块(405)相配合的卡槽(406)，所述转向轴(404)的右端连接有锥齿轮一(407)，所述转向电机(403)的动力输出端连接有锥齿轮二(408)，所述锥齿轮二(408)啮合连接锥齿轮一(407)。

3.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积设备，其特征在于：所述压盖(8)内壁开设有横槽(801)，所述横槽(801)的底部连通有多个出气孔(802)，所述出气孔(802)下端贯穿压盖(8)底部，所述横槽(801)的顶部连通有进气管(803)。

4.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积设备，其特征在于：所述通槽(12)的内壁前后对称连接有弹性夹片(121)。

5.根据权利要求2所述的一种冷壁法CVD沉积设备，其特征在于：所述隔热板(402)密封滑动连接沉积箱(4)内壁，所述转向轴(404)通过密封轴承与隔热板(402)转动连接。

6.根据权利要求1所述的一种冷壁法CVD沉积设备，其特征在于：所述支撑座(1)的底部四角安装有移动轮(101)，所述支撑座(1)的外壁安装有控制面板(102)。