[实用新型]一种精确定位的光刻胶生产加工用涂胶设备

摘要

本实用新型涉及光刻胶涂胶技术领域，且公开了一种精确定位的光刻胶生产加工用涂胶设备，包括工作台，所述工作台的上部安装有滴胶机构，所述工作台的内部安装有旋转台，所述旋转台的上部设置有放置座，所述旋转台的上部均匀设置有轨道座，所述轨道座至少为四组，所述轨道座的内部设置有移动座，所述移动座的上部安装有夹持座，所述旋转台的内部安装有气缸，所述气缸的伸缩端设置有拉伸架，所述拉伸架的内部设置有拉伸板，本新型方案可通过旋转产生的离心力进行涂胶工作，从而使得光刻胶呈向外扩散形涂抹在芯片的上部，且可对芯片的位置进行精确定位，避免滴胶时，滴胶的位置产生偏移现象，且避免旋转时，芯片的位置产生偏移甩出现象。