[实用新型]一种精确定位的光刻胶生产加工用涂胶设备

说明书

本实用新型涉及光刻胶涂胶技术领域，且公开了一种精确定位的光刻胶生产加工用涂胶设备，包括工作台，所述工作台的上部安装有滴胶机构，所述工作台的内部安装有旋转台，所述旋转台的上部设置有放置座，所述旋转台的上部均匀设置有轨道座，所述轨道座至少为四组，所述轨道座的内部设置有移动座，所述移动座的上部安装有夹持座，所述旋转台的内部安装有气缸，所述气缸的伸缩端设置有拉伸架，所述拉伸架的内部设置有拉伸板，本新型方案可通过旋转产生的离心力进行涂胶工作，从而使得光刻胶呈向外扩散形涂抹在芯片的上部，且可对芯片的位置进行精确定位，避免滴胶时，滴胶的位置产生偏移现象，且避免旋转时，芯片的位置产生偏移甩出现象。

技术领域

本实用新型属于光刻胶涂胶技术领域，具体为一种精确定位的光刻胶生产加工用涂胶设备。

背景技术

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

光刻胶在进行涂抹的过程中，一般都是把光刻胶滴在芯片的上部，通过旋转的离心力使得光刻胶进行均匀分散工作，但涂胶方式，需要对芯片的位置进行精确定位，使得光刻胶更好的滴落至光刻胶的中心，才能更好的通过离心力对光刻胶进行扩散工作，为此，我们提出了一种精确定位的光刻胶生产加工用涂胶设备

实用新型内容

针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本实用新型提供一种精确定位的光刻胶生产加工用涂胶设备，有效的解决了通过旋转的离心力使得光刻胶进行均匀分散工作，但涂胶方式，需要对芯片的位置进行精确定位，使得光刻胶更好的滴落至光刻胶的中心，才能更好的通过离心力对光刻胶进行扩散工作的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种精确定位的光刻胶生产加工用涂胶设备，包括工作台，所述工作台的上部安装有滴胶机构，所述工作台的内部安装有旋转台，所述旋转台的上部设置有放置座，所述旋转台的上部均匀设置有轨道座，所述轨道座至少为四组，所述轨道座的内部设置有移动座，所述移动座的上部安装有夹持座，所述旋转台的内部安装有气缸，所述气缸的伸缩端设置有拉伸架，所述拉伸架的内部设置有拉伸板，所述拉伸板的上部与所述移动座相连接。

优选的，所述旋转台包括旋转架、连杆与驱动电机，所述旋转架活动连接在所述工作台的内部，所述连杆固定连接在所述旋转架的底部，所述驱动电机安装在所述工作台的内部，所述驱动电机的传动轴与所述连杆的底部相连接。

优选的，所述移动座与所述拉伸架的内部均开设有卡接槽，所述拉伸板的上下两侧均卡接在所述卡接槽的内部。

优选的，。所述移动座的内部均匀开设有螺接槽，所述夹持座的内部均匀设置有螺杆，所述螺杆与螺接槽相螺接，所述夹持座通过螺杆固定在所述移动座的上部。

优选的，所述旋转台的内部均匀开设有作用槽，所述移动座活动连接在所述作用槽的内部。

优选的，所述夹持座的内部设置有卡接槽，所述卡接槽的内部设置有缓冲簧，所述缓冲簧的另一端设置有夹持块，所述夹持块的外侧位于所述卡接槽的内部。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.通过运行旋转台进行转动，通过旋转台的转动带动芯片进行旋转工作，通过芯片旋转产生的离心力，使得光刻胶均匀的涂抹在芯片的上部，通过上述结构可通过旋转产生的离心力进行涂胶工作，从而使得光刻胶呈向外扩散形涂抹在芯片的上部，且可对芯片的位置进行精确定位，避免滴胶时，滴胶的位置产生偏移现象，且避免旋转时，芯片的位置产生偏移甩出现象；

2.夹持座在对芯片进行夹持时，夹持块会与芯片进行夹持，通过卡接槽内部设置有缓冲簧，可在夹持块夹持时，对夹持块进行缓冲工作，使得夹持块收缩至卡接槽的内部，从而在芯片进行夹持时，有效的对芯片进行保护工作，避免夹持时对芯片产生损伤；