[实用新型]半导体制绒试剂浓度调节装置有效
| 申请号： | 202220973174.6 | 申请日： | 2022-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN217606777U | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | 郁亮;周志坚;李兴元;王建远;徐强 | 申请（专利权）人： | 昆山金城试剂有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/306 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型属于半导体制绒剂技术领域，为了解决现有的半导体制绒剂单体稀释连续性差的技术问题，公开了一种半导体制绒试剂浓度调节装置，包括原料罐、纯水注入管、混合管和集料罐，原料罐的底部设置有L型的出液管，混合管的管口与出液管的管口之间通过弧形管连接，纯水注入管从上方垂直插入弧形管中；混合管为蛇形盘管，其底部出口与集料罐的顶部入口连接。通过氢氟酸出液的管道上直接注入纯水，氢氟酸与纯水充分接触，无需再倒入反应池内搅拌混合，对氢氟酸稀释的连续性效果好，且稀释时间短。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 试剂 浓度 调节 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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