[实用新型]PECVD镀膜设备有效
| 申请号： | 202220519366.X | 申请日： | 2022-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN216999041U | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 谭健;杨福年;方石胜 | 申请（专利权）人： | 深圳市技高美纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | D06M15/59 | 分类号： | D06M15/59;D06G1/00 |
| 代理公司： | 广东普润知识产权代理有限公司 44804 | 代理人： | 寇闯 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型适用于纳米涂层技术领域，提供了一种PECVD镀膜设备。该设备包括微波电源、真空装置、加热蒸发装置、气体供应装置以及反应室，其中，反应室设有两个电板，纺织物材料放置在电板之间，通过电板与微波电源电连接，可以在反应室内产生高频电场。本实用新型的PECVD镀膜设备系统集成度高，镀膜过程都是在真空环境中完成，一个处理制程时间最短只有60分钟，工艺简单，效率极高，且整个反应过程完全清洁和环保，不会产生有害排放物。此外，本实用新型的PECVD镀膜设备在纺织物材料的表面产生的纳米涂层解决了纳米颗粒的团聚问题，得到一种类似纳米二氧化硅的薄膜，这种纳米聚合物涂层与织物材料以共价键结合，非常紧密和牢固，很难从织物材料表面脱离。 | ||
| 搜索关键词： | pecvd 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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