[实用新型]PECVD镀膜设备有效
| 申请号： | 202220519366.X | 申请日： | 2022-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN216999041U | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 谭健;杨福年;方石胜 | 申请（专利权）人： | 深圳市技高美纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | D06M15/59 | 分类号： | D06M15/59;D06G1/00 |
| 代理公司： | 广东普润知识产权代理有限公司 44804 | 代理人： | 寇闯 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | pecvd 镀膜 设备 | ||
1.一种PECVD镀膜设备，用于在纺织物材料的表面产生纳米薄膜，其特征在于，包括：
微波电源、真空装置、加热蒸发装置、气体供应装置以及反应室，
其中，所述真空装置、气体供应装置和加热蒸发装置分别与反应室相连通；所述反应室设有两个电极板。
2.根据权利要求1所述的PECVD镀膜设备，其特征在于，所述两个电极板相互平行，且电极板与微波电源电连接，用于在反应室内产生高频电场。
3.根据权利要求1所述的PECVD镀膜设备，其特征在于，所述气体供应装置用于向反应室分别供应惰性气体和氧气。
4.根据权利要求1所述的PECVD镀膜设备，其特征在于，所述加热蒸发装置用于向反应室供应聚酰亚胺蒸汽。
5.根据权利要求1所述的PECVD镀膜设备，其特征在于，还包括：排空装置，与所述反应室相连通。
6.根据权利要求1所述的PECVD镀膜设备，其特征在于，所述反应室还具有仓门，通过打开或关闭所述仓门用于取出或放置所述纺织物材料。
7.根据权利要求4所述的PECVD镀膜设备，其特征在于，所述加热蒸发装置的加热温度为500℃-850℃，所述聚酰亚胺蒸汽的流量为20sccm-50sccm。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的PECVD镀膜设备，其特征在于，所述微波电源的功率为150W-300W。
9.根据权利要求2所述的PECVD镀膜设备，其特征在于，所述与微波电源电连接的电极板之一接地。
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