[实用新型]用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统有效
申请号: | 202220004452.7 | 申请日: | 2022-01-05 |
公开(公告)号: | CN216704539U | 公开(公告)日: | 2022-06-10 |
发明(设计)人: | 杨天宇;崔怀江;杨涵 | 申请(专利权)人: | 青州宇信陶瓷材料有限公司 |
主分类号: | B02C7/08 | 分类号: | B02C7/08;B02C7/11 |
代理公司: | 潍坊领潮知识产权代理有限公司 37376 | 代理人: | 李晶 |
地址: | 261000 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型公开了用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统,涉及碳化硅微粉研磨技术领域,包括底板和设置在底板顶面中部的U型架,底板顶部设有下研磨盘A,下研磨盘A上方转动设有上研磨盘A,上研磨盘上方的U型架内侧面之间设有下研磨盘B,下研磨盘B上方转动设有上研磨盘B,底板底面中部转动设有连接轴,连接轴底部固接有驱动电机;本实用新型通过上研磨盘B和下研磨盘B的相互配合使用,实现对碳化硅颗粒进行第一次研磨,通过下研磨盘A和上研磨盘A的相互配合使用,便于对研磨后的碳化硅微粉再次研磨,从而使得到的碳化硅微粉合格,提高碳化硅微粉的质量,进一步提高研磨的工作效率。 | ||
搜索关键词: | 用于 碳化硅 生产 连续 循环 研磨 系统 | ||
【主权项】:
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