[实用新型]用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统有效

专利信息
申请号: 202220004452.7 申请日: 2022-01-05
公开(公告)号: CN216704539U 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 杨天宇;崔怀江;杨涵 申请(专利权)人: 青州宇信陶瓷材料有限公司
主分类号: B02C7/08 分类号: B02C7/08;B02C7/11
代理公司: 潍坊领潮知识产权代理有限公司 37376 代理人: 李晶
地址: 261000 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开了用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统,涉及碳化硅微粉研磨技术领域,包括底板和设置在底板顶面中部的U型架,底板顶部设有下研磨盘A,下研磨盘A上方转动设有上研磨盘A,上研磨盘上方的U型架内侧面之间设有下研磨盘B,下研磨盘B上方转动设有上研磨盘B,底板底面中部转动设有连接轴,连接轴底部固接有驱动电机;本实用新型通过上研磨盘B和下研磨盘B的相互配合使用,实现对碳化硅颗粒进行第一次研磨,通过下研磨盘A和上研磨盘A的相互配合使用,便于对研磨后的碳化硅微粉再次研磨,从而使得到的碳化硅微粉合格,提高碳化硅微粉的质量,进一步提高研磨的工作效率。
搜索关键词: 用于 碳化硅 生产 连续 循环 研磨 系统
【主权项】:
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