[实用新型]用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统

权利要求书

1.用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统，包括底板（1）和设置在底板（1）顶面中部的U型架（2），其特征在于：所述底板（1）顶部设有下研磨盘A（3），所述下研磨盘A（3）上方转动设有与下研磨盘A（3）配合的上研磨盘A（4），所述上研磨盘A（4）上方的U型架（2）内侧面之间设有下研磨盘B（11），所述下研磨盘B（11）上方转动设有与下研磨盘B（11）配合的上研磨盘B（12），所述上研磨盘B（12）和上研磨盘A（4）顶面均开设有导料槽（9），所述导料槽（9）底面环形等间距设有多个进料孔（10），所述进料孔（10）底部均贯穿上研磨盘B（12）和上研磨盘A（4），所述下研磨盘B（11）顶面内开设有与上研磨盘A（4）顶面的导料槽（9）连通的圆柱孔，所述底板（1）底面中部转动设有连接轴（7），所述连接轴（7）底部固接有驱动电机（6），所述驱动电机（6）顶部活动贯穿出底板（1）、下研磨盘A（3）、上研磨盘A（4）、下研磨盘B（11）和上研磨盘B（12），所述连接轴（7）顶部与U型架（2）内顶面转动设置，所述下研磨盘A（3）底部内对称设有出料槽（13）。

2.根据权利要求1所述的用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统，其特征在于：所述下研磨盘A（3）与连接轴（7）转动连接，所述上研磨盘A（4）和上研磨盘B（12）均与连接轴（7）固接，所述连接轴（7）活动贯穿出下研磨盘B（11）底部的圆柱孔，且所述圆柱孔的直径大于连接轴（7）的直径。

3.根据权利要求1所述的用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统，其特征在于：所述上研磨盘A（4）和上研磨盘B（12）底部外壁上设有环形板（8），所述环形板（8）底面设有环形滑块B，所述下研磨盘A（3）和下研磨盘B（11）顶面配合环形滑块B开设有环形滑槽B，所述环形滑块B和环形滑槽B的横截面均为梯形状，所述环形滑块B底面均匀的镶嵌有多个滚珠，所述滚珠与环形滑槽B底面接触。

4.根据权利要求1所述的用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统，其特征在于：所述下研磨盘A（3）和下研磨盘B（11）的研磨面顶部设有多个环形凸起，所述上研磨盘A（4）和上研磨盘B（12）的研磨面配合环形凸起开设有环形凸槽。

5.根据权利要求1所述的用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统，其特征在于：所述上研磨盘A（4）顶面设有环形滑块A（14），所述下研磨盘B（11）底面配合环形滑块A（14）开设有环形滑槽A。

6.根据权利要求1所述的用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统，其特征在于：所述导料槽（9）为中部高边缘底的环形槽，所述出料槽（13）为倾斜设置在下研磨盘A（3）内的矩形腔，所述底板（1）底面设有与出料槽（13）底部连通的出料管（5）。