[实用新型]用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统有效

专利信息
申请号: 202220004452.7 申请日: 2022-01-05
公开(公告)号: CN216704539U 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 杨天宇;崔怀江;杨涵 申请(专利权)人: 青州宇信陶瓷材料有限公司
主分类号: B02C7/08 分类号: B02C7/08;B02C7/11
代理公司: 潍坊领潮知识产权代理有限公司 37376 代理人: 李晶
地址: 261000 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 用于 碳化硅 生产 连续 循环 研磨 系统
【说明书】:

本实用新型公开了用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统,涉及碳化硅微粉研磨技术领域,包括底板和设置在底板顶面中部的U型架,底板顶部设有下研磨盘A,下研磨盘A上方转动设有上研磨盘A,上研磨盘上方的U型架内侧面之间设有下研磨盘B,下研磨盘B上方转动设有上研磨盘B,底板底面中部转动设有连接轴,连接轴底部固接有驱动电机;本实用新型通过上研磨盘B和下研磨盘B的相互配合使用,实现对碳化硅颗粒进行第一次研磨,通过下研磨盘A和上研磨盘A的相互配合使用,便于对研磨后的碳化硅微粉再次研磨,从而使得到的碳化硅微粉合格,提高碳化硅微粉的质量,进一步提高研磨的工作效率。

技术领域

本实用新型涉及碳化硅微粉研磨技术领域,尤其涉及用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统。

背景技术

碳化硅微粉呈绿色,晶体结构,硬度高,切削能力较强,化学性质稳定,导热性能好;在制造碳化硅微粉时,需要使用到研磨系统,而现有的研磨系统不能够对碳化硅进行连续的研磨,易导致研磨的后碳化硅微粉不合格,从而需要再次的对碳化硅微粉进行研磨,从而降低碳化硅微粉制造的效率;因此,如何设计一种具有连续化循环研磨的碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统显得尤为重要。

发明内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

用于碳化硅微粉生产的连续化循环研磨系统,包括底板和设置在底板顶面中部的U型架,所述底板顶部设有下研磨盘A,所述下研磨盘A上方转动设有与下研磨盘A配合的上研磨盘A,所述上研磨盘A上方的U型架内侧面之间设有下研磨盘B,所述下研磨盘B上方转动设有与下研磨盘B配合的上研磨盘B,所述上研磨盘B和上研磨盘A顶面均开设有导料槽,所述导料槽底面环形等间距设有多个进料孔,所述进料孔底部均贯穿上研磨盘B和上研磨盘A,所述下研磨盘B顶面内开设有与上研磨盘A顶面的导料槽连通的圆柱孔,所述底板底面中部转动设有连接轴,所述连接轴底部固接有驱动电机,所述驱动电机顶部活动贯穿出底板、下研磨盘A、上研磨盘A、下研磨盘B和上研磨盘B,所述连接轴顶部与U型架内顶面转动设置,所述下研磨盘A底部内对称设有出料槽。

优选地,所述下研磨盘A与连接轴转动连接,所述上研磨盘A和上研磨盘B均与连接轴固接,所述连接轴活动贯穿出下研磨盘B底部的圆柱孔,且所述圆柱孔的直径大于连接轴的直径。

优选地,所述上研磨盘A和上研磨盘B底部外壁上设有环形板,所述环形板底面设有环形滑块B,所述下研磨盘A和下研磨盘B顶面配合环形滑块B开设有环形滑槽B,所述环形滑块B和环形滑槽B的横截面均为梯形状,所述环形滑块B底面均匀的镶嵌有多个滚珠,所述滚珠与环形滑槽B底面接触。

优选地,所述下研磨盘A和下研磨盘B的研磨面顶部设有多个环形凸起,所述上研磨盘A和上研磨盘B的研磨面配合环形凸起开设有环形凸槽。

优选地,所述上研磨盘A顶面设有环形滑块A,所述下研磨盘B底面配合环形滑块A开设有环形滑槽A。

优选地,所述导料槽为中部高边缘底的环形槽,所述出料槽为倾斜设置在下研磨盘A内的矩形腔,所述底板底面设有与出料槽底部连通的出料管。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型通过上研磨盘B和下研磨盘B的相互配合使用,实现对碳化硅颗粒进行第一次研磨,通过下研磨盘A和上研磨盘A的相互配合使用,便于对研磨后的碳化硅微粉再次研磨,从而使得到的碳化硅微粉合格,提高碳化硅微粉的质量,进一步提高研磨的工作效率。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本申请的一部分,本实用的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:

图1为本实用新型的外观结构示意图;

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