[发明专利]一种高功率束流下的同位素生产靶组件在审
| 申请号： | 202211590423.4 | 申请日： | 2022-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN116156727A | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 何源;贾欢;蔡汉杰;张勋超;普能;秦元帅 | 申请（专利权）人： | 中国科学院近代物理研究所 |
| 主分类号： | H05H6/00 | 分类号： | H05H6/00;G21G1/10 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 任文娟 |
| 地址： | 730013 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高功率束流下的同位素生产靶组件，包括：靶室，所述靶室由靶室前板、靶室后板、靶室上盖板、靶室下盖板及左右侧板组成，所述靶室前板和所述靶室后板上设置有若干呈阵列布置的靶窗；靶胶囊，数量若干，呈单层平面阵列排布或多层立体阵列排布，所述靶室内竖直间隔布置有若干靶室单元隔板，若干所述靶室单元隔板将所述靶室分隔成若干空腔，每个所述空腔内均布置有偶数片栅板，每个所述栅板上均开设有若干靶胶囊定位孔，每个所述靶室单元隔板上均设置有与所述栅板相对应的刻槽，若干所述靶胶囊呈阵列形式嵌入所述靶胶囊定位孔内，并通过所述刻槽进行限位固定；若干所述靶窗与束流在射入或射出端面上正对的所述靶胶囊一一对应布置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 功率 流下 同位素 生产 组件 | ||
【主权项】：
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