[发明专利]一种高功率束流下的同位素生产靶组件

权利要求书

1.一种高功率束流下的同位素生产靶组件，其特征在于，包括：

靶室，所述靶室由靶室前板(10)、靶室后板(11)、靶室上盖板(8)、靶室下盖板(9)及左右侧板组成，所述靶室前板(10)和所述靶室后板(11)上设置有若干呈阵列布置的靶窗；

靶胶囊(1)，数量若干，呈单层平面阵列排布或多层立体阵列排布，所述靶室内竖直间隔布置有若干靶室单元隔板(4)，若干所述靶室单元隔板(4)将所述靶室分隔成若干空腔，每个所述空腔内均布置有偶数片栅板(2)，每个所述栅板(2)上均开设有若干靶胶囊定位孔(3)，每个所述靶室单元隔板(4)上均设置有与所述栅板(2)相对应的刻槽，若干所述靶胶囊(1)呈阵列形式嵌入相邻两个所述栅板(2)的所述靶胶囊定位孔(3)内，并通过所述刻槽进行限位，从而夹在左右两个单元隔板(4)之间；

若干所述靶窗与束流在射入或射出端面上正对的所述靶胶囊(1)一一对应布置。

2.根据权利要求1所述的同位素生产靶组件，其特征在于，所述靶胶囊(1)包括胶囊外壳以及包容于所述胶囊外壳内的同位素生产靶。

3.根据权利要求1所述的同位素生产靶组件，其特征在于，束流从靶室前板(10)射入并从所述靶室后板(11)射出，不同深度上的所述靶胶囊(1)内装配不同生产靶，用于产生不同的同位素。

4.根据权利要求1所述的同位素生产靶组件，其特征在于，每个所述空腔内相邻两列所述靶胶囊(1)之间的缝隙以及所述靶胶囊(1)与所述靶室的前后板之间的缝隙为冷却水流道(5)。

5.根据权利要求1所述的同位素生产靶组件，其特征在于，所述靶室下盖板(9)上开设有若干进水口(6)，所述靶室上盖板(8)上开设有若干出水口(7)，所述进水口(6)、所述出水口(7)与所述冷却水流道(5)一一对应布置。

6.根据权利要求1所述的同位素生产靶组件，其特征在于，所述靶胶囊(1)面向束流射入或射出方向的横截面包括圆形、椭圆形，长方形或正方形。

7.根据权利要求2所述的同位素生产靶组件，其特征在于，所述胶囊外壳采用高导热、高熔点、高强度、延展性好、易焊接的金属材料，所述同位素生产靶材料的形态包括粉末状、片状或块状。

8.根据权利要求7所述的同位素生产靶组件，其特征在于，所述金属材料包括Nb、Ta、Ti或Inconel-718。

9.根据权利要求1所述的同位素生产靶组件，其特征在于，所述靶胶囊(1)在束流方向上的厚度为几百微米到几毫米，垂直于束流的横向长度和宽度方向为几厘米。

10.根据权利要求1所述的同位素生产靶组件，其特征在于，所述同位素生产靶组件结合束流的定点扫描技术，实现毫安水平甚至十毫安水平束流强度下的同位素生产。