[发明专利]一种用于CF Rework彩膜工艺中的返工液及其清洗工艺在审
| 申请号： | 202211535038.X | 申请日： | 2022-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN115651777A | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 刘小勇;邱小真;房龙翔;李丛香;叶鑫煌;肖小江;刘文生 | 申请（专利权）人： | 福建省佑达环保材料有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/92 | 分类号： | C11D1/92;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/60;C07C303/08;C07C303/32;C07C309/42;B08B3/08;B08B3/10;B08B13/00;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 俞舟舟;蔡学俊 |
| 地址： | 362800 福建省泉州市泉*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于CF Rework彩膜工艺中的返工液及其清洗工艺，该返工液是由无机碱、有机胺、有机助剂、表面活性剂及高纯水组成。本发明的返工液可以有效去除CF工序中玻璃基板上的不良光刻胶，具有一次剥离，光刻胶不回粘，药液稳定性好，使用寿命长等优点，且挥发性小，低泡，易漂洗，对环境无污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 cf rework 工艺 中的 返工 及其 清洗 | ||
【主权项】：
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