[发明专利]一种用于CF Rework彩膜工艺中的返工液及其清洗工艺

说明书

本发明公开了一种用于CF Rework彩膜工艺中的返工液及其清洗工艺，该返工液是由无机碱、有机胺、有机助剂、表面活性剂及高纯水组成。本发明的返工液可以有效去除CF工序中玻璃基板上的不良光刻胶，具有一次剥离，光刻胶不回粘，药液稳定性好，使用寿命长等优点，且挥发性小，低泡，易漂洗，对环境无污染。

技术领域

本发明属于湿电子化学品领域，主要应用显示面板领域，涉及到一种用于CFRework彩膜工艺中的返工液及其清洗工艺，用来快速剥离CF基板上的不良光刻胶及其保护层，使得剥离后的基板可以重复利用。

背景技术

彩色滤光片（ColorFilter，简称CF）是TFT-LCD实现彩色显示的核心材料，其基本结构包括玻璃基板、黑色矩阵（BM）、彩色光阻、保护层（OC）、ITO导电膜和垫片。其中黑色矩阵（BlackMatrix，简称BM）为黑色光刻胶涂布曝光显影后形成的模型，作用为防止漏光。彩色光阻主要由三原色光刻胶（红、绿、蓝）分别经涂布曝光显影组成，为彩膜最重要的颜色层。保护层（OverCoat，简称OC）分别由接近透明的光刻胶将玻璃基板整面涂布后产生。ITO导电膜（Indiumtinoxide），主要成分为氧化铟锡。通过电离金属靶材，外加电磁场的方式，使金属膜溅射到玻璃基板上。

随着高清晰，高透过率产品技术的发展，液晶面板的关键组件彩色滤光片制作工艺中BM线宽需要更窄，开口率需要更高，阵列基板与彩色滤光片基板对位成盒时所需的精度也越来越高，但是在彩色滤光片生产的过程中，难免会产生一些不良现象，比如RGB漏光不良，Mura缺陷等，而且负载在玻璃基板上的光刻胶经过多次曝光、显影等工艺后会固化，仅仅是将错误的部分去除而进行修理是无法实现的，因此只能报废，不能修复，浪费了大量的资源，提高了生产的成本。为了能够重新利用这一批玻璃基板，降低生产成本，就需要将玻璃基板表面固化的光刻胶去除，对于存在缺陷的基板利用返工液进行返工，使得其得以重复利用。专利申请号为CN113296374A公开了一种彩色滤光片的返工液，由季铵盐、有机胺、缓蚀剂、有机溶剂、助剂和水组成。上述现有技术存在剥离效果差，气味大，泡沫丰富等缺点。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于CF Rework彩膜工艺中的返工液及其清洗工艺，该组合物剥离性能强，具有一次剥离，光刻胶不回粘，药液稳定性好，使用寿命长等优点，且挥发性小，低泡，易漂洗，能够实现彩色滤光片的再利用。

为了实现上述目的，本发明所采取的具体技术方案为：

一种用于CF Rework彩膜工艺中的返工液，按质量百分数之和为100%计，其所用各原料及各原料所占质量百分数为：

无机碱 30-35%

有机胺 1-5%

有机助剂 5-10%

表面活性剂 0.1-2%

余量为高纯水。

其中，所述无机碱为氢氧化锂，氢氧化钠，氢氧化钾，氢氧化锶，氢氧化钙，氢氧化钡，碳酸钠，碳酸钾，碳酸氢钠，碳酸氢钾中至少一种。

所述有机胺为单乙醇胺，二乙醇胺，三乙醇胺，单丙醇胺，2-氨基乙醇，2-（乙基氨基）乙醇，2-（甲基氨基）乙醇，N-甲基二乙醇胺，N,N-二甲基乙醇胺，N,N-二乙氨基乙醇，2-（2-氨基乙基氨基）-1-乙醇，1-氨基-2-丙醇，2-氨基-1-丙醇，3-氨基-1-丙醇，4-氨基-1-丁醇，二丁醇胺中的一种或几种。

所述有机助剂为乙醇、乙二醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚中的一种或多种。

所述表面活性剂为甜菜碱型表面活性剂，其化学结构式为：

其中，n为0-3内的整数，优选的，n=3。其制备方法包括如下步骤：

（1）中间体Ⅰ的合成