[发明专利]一种曝光方法及曝光设备在审
| 申请号： | 202211512565.9 | 申请日： | 2022-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN115793407A | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 徐广峰;钱文欢;陈海巍;王方江;钱聪 | 申请（专利权）人： | 无锡影速半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05K3/06 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 吕永芳 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市新吴区菱*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种曝光方法及曝光设备，属于印制电路板生产领域。本发明的曝光方法将分图数据处理与对准流程并行处理，有效地缩短了曝光时间；本发明可以将处理好的图片数据缓存于上位机或曝光系统中，同时本发明曝光设备的吸盘具备X轴、Y轴、Z轴及旋转轴四个方向的自由度，可以通过旋转和平移来校正PCB板的放板偏差，从而取代了分图系统中根据基板标记点对准结果对图形进行的旋转和平移处理，该过程减少了分图系统中图形处理耗时，进一步提升了设备产能，同时避免了在图形处理后横线变为小角度斜线带来的台阶状偏差问题，保证了曝光图形的解析精度，提升曝光品质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡影速半导体科技有限公司，未经无锡影速半导体科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202211512565.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
