[发明专利]一种曝光方法及曝光设备

权利要求书

1.一种曝光设备，其特征在于，所述曝光设备包括：底座、精密运动系统、对位系统、曝光系统和数据处理系统；

所述精密运动系统包括曝光平台，所述曝光平台下方设有旋转组件，通过所述旋转组件安装于XYZ三轴移动组件上；所述XYZ三轴移动组件包括：Y轴移动轨道、X轴移动平台和Z轴移动平台，所述Y轴移动轨道固定安装于所述底座上，所述X轴移动平台安装于所述Y轴移动轨道上；所述Z轴移动平台安装于所述X轴移动平台上表面的滑动轨道上；所述曝光平台通过所述旋转组件和所述XYZ三轴移动组件实现旋转运动和XYZ三个方向的平移运动；

所述对位系统和曝光系统通过台面支撑结构安装于所述曝光平台上方，所述台面支撑结构固定安装于所述底座上；

所述数据处理系统用于对待曝光的图形进行数字化处理，并将图形数据发送给所述曝光系统。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述旋转组件采用DD马达实现。

3.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述曝光平台的材料为大理石。

4.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述曝光平台上还设有吸盘组件。

5.一种曝光方法，其特征在于，所述曝光方法基于权利要求1-4任一项所述的曝光设备实现，包括：

步骤一：将待曝光的PCB板放在曝光平台上，所述对准系统执行对准，上位机保存对准结果；

步骤二：所述数据处理系统根据对准结果对输入的待曝光图形进行分图数据处理，将分图数据处理后的图形发送给所述曝光系统；

步骤三：所述曝光系统对所述PCB板进行曝光；

步骤四：将需要与步骤一曝光相同图案的PCB板放在所述曝光平台上，所述数据处理系统进行分图处理；同时所述对准系统进行对准操作，所述精密运动系统根据当前对准结果和所述步骤一的对准结果对PCB板进行旋转和平移，使当前PCB板放置的位置和角度与步骤一中的位置和角度一致；

步骤五：所述曝光系统对所述PCB板进行曝光；

步骤六：当需要曝光同样图形的PCB板时，重复步骤四和步骤五。

6.根据权利要求5所述的曝光方法，其特征在于，所述步骤二中还包括将分图数据处理后的图形数据进行缓存，所述步骤四中不再进行分图处理，所述曝光系统直接根据缓存的图形数据进行曝光。

7.根据权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述步骤二中将分图处理后的图形数据缓存至上位机中。

8.根据权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述步骤二中将分图处理后的图形数据缓存至所述曝光系统中。

9.根据权利要求5所述的曝光方法，其特征在于，所述步骤二中的分图数据处理包括：根据PCB板标记点对准结果对图形进行旋转、平移或者涨缩处理。