[发明专利]一种曝光方法及曝光设备在审

专利信息
申请号: 202211512565.9 申请日: 2022-11-28
公开(公告)号: CN115793407A 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 徐广峰;钱文欢;陈海巍;王方江;钱聪 申请(专利权)人: 无锡影速半导体科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H05K3/06
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 吕永芳
地址: 214000 江苏省无锡市新吴区菱*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 曝光 方法 设备
【说明书】:

发明公开了一种曝光方法及曝光设备,属于印制电路板生产领域。本发明的曝光方法将分图数据处理与对准流程并行处理,有效地缩短了曝光时间;本发明可以将处理好的图片数据缓存于上位机或曝光系统中,同时本发明曝光设备的吸盘具备X轴、Y轴、Z轴及旋转轴四个方向的自由度,可以通过旋转和平移来校正PCB板的放板偏差,从而取代了分图系统中根据基板标记点对准结果对图形进行的旋转和平移处理,该过程减少了分图系统中图形处理耗时,进一步提升了设备产能,同时避免了在图形处理后横线变为小角度斜线带来的台阶状偏差问题,保证了曝光图形的解析精度,提升曝光品质。

技术领域

本发明涉及一种曝光方法及曝光设备,属于印制电路板生产领域。

背景技术

数字曝光机是指计算机将曝光图形进行实时处理转换为机器可识别的图形数据,并由上位机控制光束调制器实现图形的实时显示,再通过光学成像系统将图形光束聚焦成像至已涂覆感光材料的基板表面上,完成图形的直接成像和曝光。

数字曝光机对比传统曝光机最大的优势在于:将曝光图形进行数字化处理,并能够根据基板的标记点直接测算实际变形量,实时修改曝光图形,从而得到较高的图形精度。

曝光图形精度越高,数字曝光机需要处理的图形数据就越大。例如,曝光图形尺寸为500x500mm,图形分辨率是3um,其数据量约为3.2GB;当图形分辨率提高到1.5um时,数据量约为23.3GB。分辨率提高一倍,数据量增加了7倍多,极大的增加了图形数据处理的工作量,同时数据传输耗时也会增加。数据处理时间和传输时间的变长影响了设备生产效率,降低了数字曝光机的产能。

此外,PCB板上料是由人工或者自动化设备进行,放板位置存在偏差,使得每次对准获取到标记点的坐标值都不同,使得每片板都要重新进行图形数据处理。分辨率增大时数据量明显增加,受到数据处理时间和传输时间的加长,降低了曝光机的产能。

数字曝光机现有曝光流程:开始--料号准备--执行对准--曝光参数发送--分图数据处理--执行曝光—曝光结束。每个步骤是串行的,但做复杂图形或者图形分辨率提高时会导致图形数据处理时间和数据传输时间加长,影响曝光机生产效率,减低设备产能。另一方面,图形处理过程中,会使得图形变形产生小角度斜线等问题,减低曝光品质。

发明内容

为了解决现有的曝光机产能低、曝光品质差的问题,本发明提供了一种曝光方法及曝光设备,所述技术方案如下:

本发明的第一个目的在于提供一种曝光设备,包括:底座、精密运动系统、对位系统、曝光系统和数据处理系统;

所述精密运动系统包括曝光平台,所述曝光平台下方设有旋转组件,通过所述旋转组件安装于XYZ三轴移动组件上;所述XYZ三轴移动组件包括:Y轴移动轨道、X轴移动平台和Z轴移动平台,所述Y轴移动轨道固定安装于所述底座上,所述X轴移动平台安装于所述Y轴移动轨道上;所述Z轴移动平台安装于所述X轴移动平台上表面的滑动轨道上;所述曝光平台通过所述旋转组件和所述XYZ三轴移动组件实现旋转运动和XYZ三个方向的平移运动;

所述对位系统和曝光系统通过台面支撑结构安装于所述曝光平台上方,所述台面支撑结构固定安装于所述底座上;

所述数据处理系统用于对待曝光的图形进行数字化处理,并将图形数据发送给所述曝光系统。

可选的,所述旋转组件采用DD马达。

可选的,所述曝光平台的材料为大理石。

可选的,所述曝光平台上还设有吸盘组件。

本发明的第二个目的在于提供一种曝光方法,基于上述的曝光设备实现,包括:

步骤一:将待曝光的PCB板放在曝光平台上,所述对准系统执行对准,上位机保存对准结果;

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