[发明专利]插塞缺陷检测结构、存储器及插塞缺陷检测方法在审
申请号: | 202211431559.0 | 申请日: | 2022-11-15 |
公开(公告)号: | CN115862724A | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 潘逢佳 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G11C29/56 | 分类号: | G11C29/56 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 黄一磊 |
地址: | 201314*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种插塞缺陷检测结构、存储器及插塞缺陷检测方法,包括:衬底、至少两个检测有源区、至少两个检测栅极以及至少两个检测插塞,所述衬底包括冗余区,所述检测有源区形成于所述冗余区中,每个所述检测栅极跨越一个或者两个所述检测有源区,且每个所述检测栅极上方形成有一个所述检测插塞,所述检测插塞位于所述检测栅极与所述检测有源区相交处,缩短所述冗余区上的所述检测栅极的长度,利用电子束扫描的方式获得所有所述插塞的电压衬度图像,根据灰度值判断所述插塞是否出现缺陷,避免所述检测栅极引入误差,提高插塞缺陷检测的精度。 | ||
搜索关键词: | 缺陷 检测 结构 存储器 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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