[发明专利]插塞缺陷检测结构、存储器及插塞缺陷检测方法在审

专利信息
申请号: 202211431559.0 申请日: 2022-11-15
公开(公告)号: CN115862724A 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 潘逢佳 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G11C29/56 分类号: G11C29/56
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 黄一磊
地址: 201314*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种插塞缺陷检测结构、存储器及插塞缺陷检测方法,包括:衬底、至少两个检测有源区、至少两个检测栅极以及至少两个检测插塞,所述衬底包括冗余区,所述检测有源区形成于所述冗余区中,每个所述检测栅极跨越一个或者两个所述检测有源区,且每个所述检测栅极上方形成有一个所述检测插塞,所述检测插塞位于所述检测栅极与所述检测有源区相交处,缩短所述冗余区上的所述检测栅极的长度,利用电子束扫描的方式获得所有所述插塞的电压衬度图像,根据灰度值判断所述插塞是否出现缺陷,避免所述检测栅极引入误差,提高插塞缺陷检测的精度。
搜索关键词: 缺陷 检测 结构 存储器 方法
【主权项】:
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