[发明专利]散射条的添加方法、存储介质在审
申请号: | 202211387164.5 | 申请日: | 2022-11-07 |
公开(公告)号: | CN115576169A | 公开(公告)日: | 2023-01-06 |
发明(设计)人: | 杜杳隽;黄晔;陈红 | 申请(专利权)人: | 深圳国微福芯技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 尹彦 |
地址: | 518000 广东省深圳市福田区福保街道福*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种散射条的添加方法、存储介质。其中散射条的添加方法,包括:根据版图上的图形的特点,将版图分为多个区域;将符合条件的区域分隔成多个相邻的方形切片;运用模式匹配算法将切片归类为几何环境各不相同的切片;运用ILT获取散射条的种子;判断散射条的种子附近是否有主图形的边,若有,在光罩设计规则的约束下,使种子沿着最近的主图形的边方向在长度方向上生长到预设长度,形成散射条骨架,并使得所述散射条骨架在宽度方向上生长到预设宽度;若没有,则在光罩设计规则的约束下,生成方形的散射条;运用模式匹配算法将各切片上生成的散射条贴回至版图上相应位置。本发明可以适应不同的版图,同时计算量比单一的ILT要少。 | ||
搜索关键词: | 散射 添加 方法 存储 介质 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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