[发明专利]一种化学气相沉积金刚石系统及设备在审
申请号: | 202211376070.8 | 申请日: | 2022-11-04 |
公开(公告)号: | CN115652274A | 公开(公告)日: | 2023-01-31 |
发明(设计)人: | 全峰;顾亚骏;蒋礼 | 申请(专利权)人: | 深圳优普莱等离子体技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C01B32/26;C23C16/44;C23C16/458;C23C16/511 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深圳市光明区光*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种化学气相沉积金刚石系统及设备,包括腔体、腔体盖、沉积台、环形微波馈入窗、波导、同轴波导、倒置型基片台组件密封装置和倒置型基片台组件,腔体、腔体盖、沉积台、环形微波馈入窗、同轴波导、倒置型基片台组件密封装置和倒置型基片台组件围成真空密封环境,倒置型基片台组件可上下移动;微波激发的等离子体位于倒置型基片台组件的正下方。本发明通过环形微波馈入窗设置于腔体盖和沉积台之间,微波馈入窗和等离子体之间有倒置型基片台和沉积台进行了阻隔,距离等离子体较远,金刚石生长过程中伴生碳残余物质不会掉落在微波馈入窗上,同时离子化的反应气体也不会对微波馈入窗进行刻蚀,避免金刚石生长环境中引入硅或其他的杂质。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 金刚石 系统 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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