[发明专利]基片处理装置和动作状态监视方法在审

专利信息
申请号: 202211278506.X 申请日: 2022-10-19
公开(公告)号: CN116072591A 公开(公告)日: 2023-05-05
发明(设计)人: 福岛贤治 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/687 分类号: H01L21/687;H01L21/67
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;刘芃茜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供能够稳定地确认抓持部的动作状态的基片处理装置和动作状态监视方法。基片处理装置包括:能够在多个位置抓持基片的周缘来保持该基片的保持部;使保持部旋转的旋转部;和控制保持部和旋转部的控制部。保持部包括:旋转盘,利用旋转部能够使旋转盘旋转;第一抓持部和第二抓持部,其与旋转盘一起旋转,并且能够彼此独立地在抓持基片的周缘的抓持位置与释放基片的释放位置之间移动。基片处理装置包括检测部,其在旋转部旋转的期间针对第一抓持部和第二抓持部分别利用传感器来非接触地检测位于抓持位置的状态和位于释放位置的状态。控制部基于传感器的检测信号来判断第一抓持部或第二抓持部的动作状态。
搜索关键词: 处理 装置 动作 状态 监视 方法
【主权项】:
暂无信息
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