[发明专利]基片处理装置和动作状态监视方法

说明书

本发明提供能够稳定地确认抓持部的动作状态的基片处理装置和动作状态监视方法。基片处理装置包括：能够在多个位置抓持基片的周缘来保持该基片的保持部；使保持部旋转的旋转部；和控制保持部和旋转部的控制部。保持部包括：旋转盘，利用旋转部能够使旋转盘旋转；第一抓持部和第二抓持部，其与旋转盘一起旋转，并且能够彼此独立地在抓持基片的周缘的抓持位置与释放基片的释放位置之间移动。基片处理装置包括检测部，其在旋转部旋转的期间针对第一抓持部和第二抓持部分别利用传感器来非接触地检测位于抓持位置的状态和位于释放位置的状态。控制部基于传感器的检测信号来判断第一抓持部或第二抓持部的动作状态。

技术领域

本发明涉及基片处理装置和动作状态监视方法。

背景技术

专利文献1公开了一种利用基片保持机构保持基片来使该基片旋转，并在该旋转的期间将处理液供给到基片的基片处理装置。基片保持机构沿周向具有3个保持部件(抓持部)，各保持部件通过与基片的周缘接触来保持基片。

此外，基片处理装置在基片停止旋转时，基于以能够与各保持部件接触的方式设置的接触式传感器的接触或非接触的检测结果，判断各保持部件对基片的保持状态。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4819010号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

本发明提供一种能够在抓持部旋转的期间稳定地确认该抓持部的动作状态的技术。

用于解决技术问题的技术方案

依照本发明的一个方案，提供一种基片处理装置，其包括：能够在多个位置抓持基片的周缘来保持该基片的保持部；使上述保持部旋转的旋转部；以及对上述保持部和上述旋转部进行控制的控制部，上述保持部包括：旋转盘，利用上述旋转部能够使上述旋转盘旋转；第一抓持部，其与上述旋转盘一起旋转，并且能够在抓持上述基片的周缘的抓持位置与释放上述基片的释放位置之间移动；和第二抓持部，其与上述旋转盘一起旋转，并且能够相对于上述第一抓持部独立地在上述抓持位置与上述释放位置之间移动，上述基片处理装置包括检测部，上述检测部在上述旋转部旋转的期间，针对上述第一抓持部和上述第二抓持部分别利用传感器来非接触地检测位于上述抓持位置的状态和位于上述释放位置的状态，上述控制部基于上述传感器的检测信号来判断上述第一抓持部或上述第二抓持部的动作状态。

发明效果

依照一个方案，基片处理装置能够在抓持部旋转的期间稳定地确认该抓持部的动作状态。

附图说明

图1是表示一个实施方式的基片处理装置的截面图。

图2是图1的局部放大图。

图3是表示一个实施方式的保持部的截面图，(A)是表示第一抓持部的抓持位置的截面图，(B)是表示第一抓持部的释放位置的截面图。

图4是表示第一抓持部和第二抓持部的移动之一例的平面图，(A)是表示两者均处于释放位置的状态的平面图，(B)是表示一者处于抓持位置且另一者处于释放位置的状态的平面图。

图5是表示第一抓持部和第二抓持部的移动之一例的平面图，(A)是表示两者均处于抓持位置的状态的平面图，(B)是表示一者处于释放位置且另一者处于抓持位置的状态的平面图。

图6是将光纤传感器的上部放大地表示的立体图。

图7是表示光纤传感器的检测信号的说明图。

图8是表示用于检测光纤传感器的异常的极限设定值的说明图。

图9是表示主控制器的功能的框图。

图10是表示抓持部的动作状态的概略图。