[发明专利]封装结构及封装结构的形成方法在审

专利信息
申请号: 202211153281.5 申请日: 2022-09-21
公开(公告)号: CN115425002A 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 刘在福;曾昭孔;郭瑞亮;焦洁 申请(专利权)人: 苏州通富超威半导体有限公司
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L21/48;H01L21/60;H01L23/64;H01L25/18;H01L25/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 唐嘉
地址: 215021 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种封装结构及其形成方法,结构包括:第一晶片,具有相对的第一面和第二面;固定于第一晶片侧壁表面的钝化层,具有相对的第三面和第四面;位于钝化层内的若干第一连接层,第一连接层自第三面向第四面贯穿钝化层;位于第一晶片内的若干第二连接层,第二连接层自第一面向第二面贯穿钝化层;位于钝化层第三面的第一器件结构,所述第一器件结构与第一连接层电连接;位于第一晶片第一面的第二器件结构,第二器件结构与第二连接层电连接;位于钝化层第四面上的第一电连接结构,第一电连接结构与第一连接层电连接;位于第一晶片第二面上的第二电连接结构,第二电连接结构与第二连接层电连接。所述封装结构的封装灵活性较高,节省面积。
搜索关键词: 封装 结构 形成 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州通富超威半导体有限公司,未经苏州通富超威半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211153281.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top