[发明专利]一种硅片氧化设备及氧化工艺

摘要

本发明公开了一种硅片氧化设备，包括壳体，所述壳体的壳壁内部设有多个电加热管，所述壳体上开设有进料口，所述进料口处设有密封门，所述壳体内侧壁上设有一组对应的磁吸板，两个所述磁吸板之间设有第一安装板，所述第一安装板上设有多个第一弧形卡槽，每个所述弧形卡槽两侧的第一安装板边缘均设有连接块，每个所述弧形卡槽下方的第一安装板板面上设有凹槽，每组所述连接块之间均转动连接有夹持组件，本发明结构简单，设计新颖，通过第一弧形卡槽和第二弧形卡槽，将硅片竖立夹持，从而可对硅片的双面同时进行氧化处理，使双面都氧化的更加均匀，再通过夹持组件将硅片进一步紧固配合，能够防止氧化过程中硅片掉落。