[发明专利]一种633nm高透过率金属线栅在审
| 申请号： | 202211023323.3 | 申请日： | 2022-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN115407441A | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 方志辉;李广伟 | 申请（专利权）人： | 福建睿创光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 福州顺升知识产权代理事务所(普通合伙) 35242 | 代理人： | 林志杰 |
| 地址： | 350000 福建省福州市闽侯县上街*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种633nm高透过率金属线栅，该金属线栅包括保护层、粘接层、金属层和基底，保护层为低折射率光学玻璃，粘接层为光学胶，金属层为周期性结构，基底为普通光学玻璃材料，该金属线栅的线栅周期小于400nm，线栅槽型为矩形，深度0.14～0.2um。本发明的633nm高透过率金属线栅在633波长，光线0°入射下，透过率高于95％，消光比大于40db。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 633 nm 透过 金属线 | ||
【主权项】：
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